在光刻车间里，哪怕有微量水分存在，都可能影响到光刻工艺的准确性。在使用曝光设备之前，就难以控制光阻层的厚度以及CD的质量了。加热板虽然可以快速去除这些水分，但同时也会让晶圆背面过热，从而导致图案出现变形。为了解决这个问题，我们设计了这种专门用于去除晶圆上水分的装置——它只对晶圆的表面进行干燥处理，速度很快，而且不会影响晶圆的整体温度。
该装置内部装有短波卤素灯，其能量释放方式十分精确且可控。在曝光区域内，温度均匀性可达到±0.1°C左右，设定值的重复性也非常好，误差在几度之内。这样的稳定性意味着，无论哪批晶圆经过处理后，其光阻层的质量都能保持一致。
该装置可以在1-100级洁净室中使用，不会增加空气中的颗粒物含量。此外，其轻巧的设计还能减少更换不同工艺参数时的热量损失。
在实际使用中，晶圆进入干燥装置后，水分问题会大大减少，光阻层的质量也会得到提升。由于水分能在几秒钟内被去除，因此处理时间大大缩短，而且其能耗也低于传统的全晶圆干燥装置。这种装置的可靠性非常高，已连续运行5,000小时以上，故障率不到5%，能够实现24/7不间断运行。
安装过程相当简单，但关键在于如何调整灯光的角度，确保灯光只照射晶圆的表面，同时避免过度加热晶圆的边缘。只需稍作调试，就能让灯光与光刻工艺完美配合。
如此一来，光阻层的性能就能得到稳定控制，CD的质量也能保持一致，从而避免了因水分干扰而导致的废品问题。