FO-WLP 라인에서 리플로우 및 캡슐화 중 온도 변동은 명확한 고장으로 나타나지 않는다. 미세한 왜곡 변화, 몇 마이크론 단위의 다이 이동, 그리고 소프트 베이크 이후 포토레지스트 프로필의 느린 변화로 나타난다. 결과적으로 수율 손실이 발생하며, 예기치 않은 가동 중단을 한 번씩 겪으며 열 예산을 추적하게 된다.
실제로 중요한 것은 매일 마주하는 제약 조건 하에서의 반복성이다. 우리는 활성 영역 전반에 걸쳐 ±0.1°C 이내의 웨이퍼 레벨 균일성을 유지하는 FO-WLP 히터를 운용한다. 단파 적외선 요소와 쿼츠 기반 열 스택이 과도한 온도 상승을 공정 범위 밖으로 차단한다.
클린룸 호환성은 추가적 장치가 아닌 설계 단계부터 내장되어 있다. Class 1–100 수준의 운용, 밀폐된 인터페이스, 그리고 오염 입자 수를 최소화하는 제로 파티클 디자인이 그것이다. 포토레지스트 베이크 공정은 엄격히 관리되어 소프트 베이크와 하드 베이크 프로필이 허용 오차 내에서 일치하며, 중요한 치수 제어가 공정 간에 벗어나지 않는다. 본 플랫폼은 24시간 7일 연속 운전을 위해 설계되었으며, 내장된 진단 기능과 예측 가능한 유지보수 주기를 갖추고 있다.
이 시스템이 견고한 이유는 측정 가능한 공정 제어가 있기 때문이다. 엄격한 열 균일성은 왜곡에 의한 다이 이동을 줄이고, 캡슐화제 흐름을 안정화하며, 재작업 사이클에서도 리소그래피 스택을 일정하게 유지한다. 이는 첫 번째 통과 수율 향상, 온도 변동 감소, 그리고 일정한 사이클 타임을 의미한다.
에너지 사용은 필요한 곳에만 열을 집중시키고 빠르게 안정화시켜 관리되므로, 온도 프로필을 유지하면서 전력 낭비가 발생하지 않는다. 신뢰성은 현장 검증되었으며, 호스트 장비의 제어 루프와 히터가 일치할 경우 5,000시간 이상의 운전에도 출력 저하가 5% 미만이며, 예기치 않은 가동 중단은 없다.
실무적 사항 몇 가지를 언급하자면, 히터는 챔버 형상과 기판 적층 구조에 맞게 조정되어야 한다. 방출율(emissivity)이 변화하면—예를 들어, 벌거벗은 실리콘에서 몰딩 웨이퍼로 전환 시—유효 설정점이 이동할 수 있으므로 초기 승인 단계에서는 다점 온도 맵과 단기 반복성 테스트가 포함되어야 한다.
설치를 계획할 때는 청결에 신경 써야 한다. 검증된 개스킷, 적절한 접지, 그리고 ESD 위험 요소를 사전에 처리해야 한다. 모든 요소가 정렬되면 공정 창이 작아지고 안정적이 된다. 이것이 FO-WLP가 요구하는 바이다.