リソグラフィーの工程では、わずか0.5度程度の温度変動でもすぐに問題が発生します。つまり、線幅のばらつきや歩留まりの低下が起こります。目標値を達成しようとしても、ウェーハ全体の均一性を保つのは難しく、また微粒子の発生によってクリーンルーム内の環境も悪化します。一方、線形赤外線加熱器は、これらの問題を同時に解決します。
技術的に重要な点 線形赤外線エミッターは直接加熱するため、迅速に作用し、ウェーハ全体の温度を±0.1°C以内に保ちます。設定値の変更も数秒以内で行えるため、温度のオーバーシュートはありません。この装置は、クラス1～100のクリーンルームで使用でき、微粒子の発生もありません。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変動は5％未満です。サイズやインターフェースは標準的な半導体装置と同じなので、プロセスチャンバーを改修する必要はありません。
フォトレジスト処理において有効な理由 フォトレジスト処理では、再現可能な温度プロファイルが重要です。このエミッターを使用することで、ソフトベイクやハードベイクの過程が安定し、CD制御が向上し、再作業が減少します。また、温度上昇が速くなるため、サイクルタイムが短縮されます。加熱が目的別に行われるため、エネルギー消費も少なくなります。その結果、一貫した生産性と予測可能なメンテナンス間隔が実現し、ベイク温度に関連する問題も大幅に減少します。
設置時に知っておくべきこと 正確な位置合わせが必要です。ウェーハ面との光学的な位置合わせや、不要な反射を防ぐための隙間の管理が重要です。具体的なレジスト材料に合わせて、放射率や出力を調整するための短期間のテストが必要です。このエミッターは標準的な電力及び制御インターフェースを備えていますが、ウェーハが高温になる間、チャンバー内の温度を下げるための冷却や遮蔽対策を事前に計画する必要があります。