Warum wir auf Infrarot-Härtung für bleifreie Chips umsteigen Die Halbleiterindustrie strebt nach und nach zu „bleifreien“ sowie umweltfreundlichen...

Sicherstellen der Sicherheit beim Erhitzen flüchtiger Chemikalien Falls Sie Waferspülanlagen betreiben, wissen Sie bereits, womit Sie es zu tun...

Ihren Wafer bei der Aushärtung sauber halten – und Ihren Verstand behalten Wenn Sie einen Reinraum der Klasse 100 betreiben, kennen Sie das Problem...

MemS-Wafern trocknen – ohne Probleme Beim Trocknen von MemS-Sensorwafern muss man vorsichtig vorgehen. Das Flüssigkeit muss schnell entfernt werden –...

Ihren Reinraum der Klasse 100 tatsächlich sauber halten Wenn man Siliziumwafern erhitzt, ist die Temperatur allein noch nicht alles. In einem...

Auf dem Produktionsboden weiß man, wie schnell bereits ein einziger Fleck durch feuchte Reinigung oder ein Defekt im Fotolack dazu führen kann, dass...

Im Bereich der Lithografie kann bereits ein Hauch an Oberflächenfeuchtigkeit dazu führen, dass die Trocknung des Photoresists nicht ordnungsgemäß...

On der FO-WLP-Linie zeigen sich Temperaturschwankungen während des Reflow- und Kapselungsprozesses nicht als spektakuläre Ausfälle. Sie äußern sich...

Auf der 300mm-Linie ist das Wafer-Dünnen direkt vor dem Dicing der Punkt, an dem thermische Spannungen zu Ausschuss führen. Ein Support-Heizer, der...