Im Bereich der Lithografie kann bereits ein Hauch an Oberflächenfeuchtigkeit dazu führen, dass die Trocknung des Photoresists nicht ordnungsgemäß abläuft. So verliert man die Kontrolle über die Dicke des Photoresists sowie über die Eigenschaften der CDs – und das schon bevor die Belichtungseinrichtung zum Einsatz kommt. Heiße Platten haben Schwierigkeiten, den Film schnell genug zu entfernen, ohne dabei die Rückseite der Wafer zu überhitzen. Dadurch entstehen Verzerrungen im Muster. Wir haben daher eine Lampe entwickelt, die die Feuchtigkeit von den Wafern entfernt – nur die Vorderseite der Wafer wird getrocknet, was schnell erfolgt und dabei die thermischen Belastungen minimiert.
Die Lampe nutzt Kurzwellenhalogenelemente in einer Quarzkapsel, wodurch Energie schnell und kontrolliert abgegeben werden kann. In der beleuchteten Zone erreicht man eine Homogenität von ±0,1°C. Die Genauigkeit der Einstellungen bleibt hoch – innerhalb von wenigen Grad. Diese Stabilität sorgt dafür, dass die Profile beim Trocknen konstant bleiben.
Die Lampe kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, ohne dass dies zu einem Anstieg der Partikelzahl führt. Das geringe Gewicht der Lampe sorgt außerdem dafür, dass es zu keinen thermischen Verzögerungen kommt, wenn man die Einstellungen ändert.
Im täglichen Gebrauch führt die Nutzung dieser Lampe dazu, dass es weniger Defekte durch Feuchtigkeit gibt und die Profile des Photoresists konstanter bleiben. Die Bearbeitungszeit verkürzt sich, da die Feuchtigkeit in Sekunden statt in Minuten entfernt wird. Zudem bleibt der Stromverbrauch niedrig im Vergleich zu herkömmlichen Trocknungsanlagen. Die Zuverlässigkeit dieser Lampe ist hervorragend: Sie hat bereits mehr als 5.000 Stunden lang funktioniert, mit weniger als 5% Leistungsabfall – was eine ständige 24/7-Nutzung ohne unplanmäßige Ausfälle ermöglicht.
Die Installation ist einfach, doch die richtige Ausrichtung der Lampe ist entscheidend. Die Lampe muss nur die Vorderseite der Wafer beleuchten. Zudem muss der Strahlwinkel so gewählt werden, dass die Ränder der Wafer nicht überhitzt werden. Es ist also notwendig, die Zeit sowie Intensität der Beleuchtung so einzustellen, dass die Lampe zur Trocknung beiträgt und nicht davon behindert wird.
Der Vorteil ist klar: Der Photoresist verhält sich vorhersehbar, die Kontrolle über die Eigenschaften der CDs bleibt konstant – und man muss keine Chargen wegen Feuchtigkeit verschwenden.