Di bilik proses litografi, sedikit kelembapan pada permukaan boleh mengganggu proses pembakaran yang dilakukan. Ini akan menyebabkan ketidakstabilan dalam ketebalan lapisan fotoresist dan juga pada cakera CD. Papan pemanas mungkin sukar untuk menghilangkan kelembapan tersebut dengan cepat, tanpa memanaskan bahagian belakang wafer. Inilah sebabnya berlaku distorsi pada corak yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu khusus untuk menghilangkan kelembapan pada wafer, agar proses pembakaran dapat berjalan dengan lancar—tanpa mempengaruhi suhu wafer.
Lampu ini menggunakan unsur halogen berfrekuensi rendah yang terletak di dalam selubung kuarsa. Energi yang dihasilkan dapat dikawal dengan baik. Kestabilan suhu di kawasan yang diproses adalah sekitar ±0.1°C, dan nilai tetapnya sangat tepat—dalam beberapa darjah sahaja. Kestabilan ini memastikan bahawa profil proses pembakaran tidak berubah dari satu batch ke batch yang lain.
Lampu ini boleh digunakan di bilik bersih kelas 1–100, tanpa menambah jumlah zarah debu di udara. Reka bentuknya yang ringan membantu mengurangkan kelewatan haba ketika menukar resep proses pembakaran.
Dalam penggunaan harian, wafer akan masuk ke alat pengering ini, dan kecacatan akibat kelembapan akan berkurangan. Waktu proses pembakaran juga berkurangan, kerana proses penghilangan kelembapan berlaku dalam masa beberapa saat sahaja. Penggunaan tenaga juga lebih rendah berbanding modul pembakaran lengkap. Kebolehpercayaan lampu ini sangat tinggi; ia telah beroperasi selama 5,000 jam atau lebih, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Ini membolehkan operasi berjalan 24/7 tanpa gangguan.
Pemasangannya mudah, tetapi penyesuaian posisi lampu sangat penting. Lampu ini perlu menerangi hanya permukaan depan wafer sahaja, dan sudut sinarnya perlu disesuaikan mengikut saiz wafer agar tepi wafer tidak terlalu panas. Proses penyesuaian ini memerlukan sedikit masa, tetapi hasilnya akan memastikan lampu berfungsi dengan baik semasa proses pembakaran.
Faedahnya sangat jelas: lapisan fotoresist akan berfungsi secara konsisten, kawalan kualiti cakera CD akan tetap stabil, dan masalah akibat kelembapan dapat dielakkan.