Di bahagian proses litografi, sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan garisan pada permukaan wafer, dan ini seterusnya akan menurunkan kualiti hasil pengeluaran. Walaupun anda berusaha untuk memastikan suhu tetap stabil, namun masalah ketidakseragaman suhu antara pelbagai bahagian wafer masih wujud. Selain itu, kehadiran zarah-zarah kecil dalam bilik bersih juga menjadi masalah. Penggunaan pemanas inframerah linear dapat menyelesaikan kedua-dua masalah ini sekaligus.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Pemanas inframerah linear ini memanaskan wafer dengan cepat, dan mampu mengekalkan suhu pada tahap yang seragam, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C. Perubahan setting suhu berlaku dalam masa beberapa saat sahaja, jadi risiko suhu melampaui had yang ditetapkan dapat dielakkan. Pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada zarah-zarah kecil yang terbentuk, seperti yang dapat dilihat melalui pemantauan secara langsung. Output pemanas ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan intensiti kurang dari 5%. Saiz dan antaramuka pemanas ini sesuai dengan peralatan semikonduktor biasa, jadi ia boleh digunakan tanpa perlu mengubah susunan peralatan lain dalam bilik pengeluaran.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengolahan fotoresist:
Proses pengolahan fotoresist bergantung sepenuhnya pada pola suhu yang konsisten. Dengan penggunaan pemanas ini, proses pemanasan dapat dilakukan dengan lebih efisien, sehingga kawalan ketebalan garisan pada permukaan wafer menjadi lebih baik. Masa yang diperlukan untuk memproses wafer juga berkurangan, tanpa perlu menambah beban haba. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanasan dilakukan secara terarah, dan kehilangan tenaga diminimumkan. Hasilnya, kualiti hasil pengeluaran menjadi lebih konsisten, waktu penyelenggaraan dapat diramalkan dengan tepat, dan masalah berkaitan suhu semasa proses pengolahan dapat dikurangkan.
Apa yang perlu diketahui semasa pemasangan:
Penyelarasan perlu dilakukan dengan teliti—penyelarasan optik terhadap permukaan wafer, serta menjaga jarak yang sesuai agar tidak ada pantulan cahaya yang tidak diinginkan. Proses penyesuaian parameter pemanas memerlukan masa yang singkat. Pemanas ini menggunakan antaramuka kuasa dan kawalan yang biasa digunakan, tetapi perancangan pengurusan haba perlu dilakukan terlebih dahulu—sistem penyejukan dan perlindungan perlu disediakan agar suhu dalam bilik pengeluaran tetap rendah sementara wafer dipanaskan.