Di fasiliti pengeluaran, faktor yang mempengaruhi kualiti produk adalah suhu. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C pada pemanas MOCVD semasa proses epitaksi GaN akan menyebabkan ketidakseragaman ketebalan lapisan bahan yang dihasilkan, serta peningkatan jumlah wafer yang tidak dapat digunakan. Kami telah mencipta pemanas inframerah MOCVD khusus untuk GaN agar variasi suhu ini dapat dikurangkan.
Apa yang penting dalam reka bentuk ini
Inti pemanas ini menggunakan gelombang inframerah panjang, yang membolehkan kawalan suhu yang sangat tepat, sehingga ±0.1°C. Ini memastikan keseragaman suhu di seluruh permukaan bahan yang diproses. Selain itu, sistem ini juga memberikan respons yang cepat terhadap perubahan suhu, jadi tidak akan berlaku lebihan suhu. Profil suhu yang dihasilkan kekal stabil walaupun selepas penyelenggaraan atau perubahan aliran udara di bilik bersih. Reka bentuk ini sesuai untuk bilik bersih kelas 1–100, dengan pengeluaran tenaga yang minimum dan prestasi yang stabil walaupun setelah 5,000 jam penggunaan.
Mengapa ia sesuai untuk GaN MOCVD
Dalam proses GaN MOCVD, kestabilan suhu sangat penting untuk menentukan kualiti lapisan bahan dan kadar kecacatan yang dihasilkan. Dengan mengawal suhu dengan baik, kita dapat mengelakkan pembaziran bahan dan memendekkan masa yang diperlukan untuk proses pengeluaran. Ketepatan suhu yang tinggi ini juga membantu dalam proses pengeringan bahan menggunakan fotorezistan. Selain itu, sistem ini menggunakan tenaga yang lebih sedikit kerana mampu mencapai dan mengekalkan suhu yang diinginkan dengan mudah.
Butiran praktikal
Pemasangan pemanas ini memerlukan pengaturan geometri yang tepat serta penyesuaian posisi kaca kuarsa yang digunakan. Jika ada kesilapan sebanyak beberapa desimal milimeter, zon panas akan berubah kedudukannya. Adalah penting untuk menggunakan sumber kuasa yang berkualiti tinggi serta sistem penggrounding yang baik, agar tidak berlaku gangguan elektromagnetik. Sebarang perubahan pada komponen kuarsa memerlukan kalibrasi semula, tetapi setelah disetel dengan betul, profil suhu akan kekal stabil.