Trong môi trường sản xuất bằng kỹ thuật in khắc lithography, ngay cả một lượng hơi ẩm nhỏ trên bề mặt cũng có thể gây ra những sai lệch trong quá trình xử lý vật liệu phim quang học. Bạn sẽ mất kiểm soát độ dày của lớp phim quang học và chất lượng của các đĩa CD trước cả khi bắt đầu quá trình chiếu sáng. Các bề mặt nóng cũng khó có thể loại bỏ hơi ẩm một cách nhanh chóng mà không làm nóng phần sau của wafer; điều này dẫn đến sự biến dạng của các hoa văn trên bề mặt wafer. Chúng tôi đã thiết kế một thiết bị để loại bỏ hơi ẩm từ wafer một cách hiệu quả – thiết bị này chỉ làm khô mặt trước của wafer, với tốc độ nhanh, và không làm tăng nhiệt độ của wafer.
Thiết bị này sử dụng các nguyên lý phát sáng halogen sóng ngắn bên trong vỏ thủy tinh, giúp truyền năng lượng một cách nhanh chóng và có kiểm soát. Độ đồng đều của nhiệt độ trong khu vực được chiếu sáng đạt mức ±0,1°C; độ chính xác trong việc điều chỉnh nhiệt độ cũng rất cao, chỉ dao động trong vài độ. Điều này giúp đảm bảo rằng quy trình xử lý vật liệu phim quang học diễn ra ổn định từ lô sản xuất này sang lô sản xuất khác.
Thiết bị này có thể hoạt động trong môi trường sạch loại 1–100 mà không làm tăng số lượng hạt bụi trong không khí. Thiết kế nhẹ của nó cũng giúp giảm tình trạng chậm phản ứng nhiệt khi thay đổi công thức sản xuất.
Trong quá trình sử dụng hàng ngày, wafer được đưa vào thiết bị sấy, giúp giảm thiểu các khiếm khuyết do hơi ẩm gây ra. Thời gian xử lý cũng được rút ngắn vì việc loại bỏ hơi ẩm diễn ra trong vài giây thay vì vài phút. Mức tiêu thụ điện năng cũng thấp hơn so với các thiết bị sấy toàn bộ wafer. Độ tin cậy của thiết bị này rất cao: các thiết bị này đã hoạt động hơn 5.000 giờ mà tỷ lệ lỗi chỉ dưới 5%, giúp đảm bảo hoạt động ổn định 24/7 mà không có sự gián đoạn nào.
Việc lắp đặt thiết bị khá đơn giản, nhưng việc điều chỉnh góc chiếu sáng mới là yếu tố quan trọng. Thiết bị phải chỉ chiếu sáng mặt trước của wafer, và góc chiếu sáng cần được điều chỉnh sao cho phù hợp với kích thước của wafer, để tránh làm nóng quá mức các mép của wafer. Bạn cần thực hiện một vài thao tác điều chỉnh để đảm bảo rằng thiết bị hoạt động hiệu quả trong quy trình xử lý wafer.
Lợi ích của việc sử dụng thiết bị này rất rõ ràng: lớp phim quang học hoạt động một cách ổn định, việc kiểm soát chất lượng đĩa CD cũng được đảm bảo, và bạn sẽ không còn phải lo lắng về việc hơi ẩm xâm nhập vào wafer vào những thời điểm không mong muốn nữa.