Litografide, yüzeydeki az miktardaki nem bile üretim sürecini bozabilir. Fotoresistin kalınlığını ve CD’lerin kalitesini kontrol etmek mümkün olmaz. Sıcak plakalar da bu filmi hızlı bir şekilde çıkarmakta zorlanır; bu da desenlerde bozulmalara neden olur. Bu sorunu çözmek için, yalnızca ön yüzeyi kurutan, hızlı ve termal enerji tüketimi düşük olan bir cihaz geliştirdik.
Bu cihaz, kuvars kılıf içindeki kısa dalga halojen elemanları kullanarak enerjiyi hızlı ve kontrollü bir şekilde yayar. İşlem gören bölgede ±0,1°C’lik bir denge sağlanır ve ayarların tekrarlanabilirliği de birkaç derece içinde kalır. Bu tür bir stabilite sayesinde, üretim süreçlerinde herhangi bir sapma olmaz.
Bu cihaz, 1–100 sınıfı temiz odalarda kullanılabilir ve parçacık sayısını artırmaz. Ayrıca düşük kütleli tasarımı sayesinde, farklı proseslerde bile termal gecikme en aza indirilir.
Günlük kullanımda, wafler bu cihaza girer ve daha az nem sorunu ortaya çıkar. Fotoresistin kalitesi de artar. Nemin saniyeler içinde giderilmesi sayesinde işlem süresi kısalır ve güç tüketimi de düşük kalır. Bu cihazın güvenilirliği oldukça yüksektir; 5.000 saatten fazla çalışma süresince %5’ten az verim kaybı yaşanmıştır ve böylece 24/7 kesintisiz çalışma mümkün olmuştur.
Kurulumu oldukça basittir; ancak lambanın yalnızca ön yüzeyi aydınlatması gerekmektedir. Ayrıca, lambanın ışın açısının wafer boyutuna uygun olması gerekiyor ki kenarlar aşırı ısınmasın. Lambanın işleme adımlarıyla uyum içinde çalışabilmesi için ayarların doğru yapılması gerekmektedir.
Sonuç olarak, fotoresist beklenildiği gibi davranır, CD’lerin kalitesi sabit kalır ve yanlış zamanda giren nem yüzünden ürünlerin boşa gitmesi engellenir.