化学処理が行われている場所でのIRランプの心配はやめましょう。 バイオセンサーを製造している方なら、お分かりでしょう。完璧な熱硬化処理や迅速な乾燥が必要ですが、その作業は可燃性の洗剤がある場所で行われます。このような状況では、通常の開放型IRランプは単なる工具ではなく、むしろ危険な存在です。ちょっ...

ウエハーの硬化処理をクリーンに保つために（そして、心の平穏を保つために） もし、クラス100のクリーンルームで作業を行っているのであれば、その苦労はよくご存知でしょう。わずかなガスの発生や、ランプから飛び出す微粒子だけで、全体の製品が台無しになってしまいます。ウエハーの硬化処理用の反射器や加熱ラン...

製造現場でのオゾン問題を解決しよう 正直に言って、装置の後処理は最も面倒な作業です。半導体製造においては、私たちはゼロ排出を目指しています。しかし、通常のIRランプや対流式オーブンを使用している場合、厄介な問題が発生します。これらのランプは185～254nmの波長の光を放つため、クリーンルーム内の...

バイオセンサー製造工程におけるランプの破損という悪夢を防ぐには 高負荷の状態でランプが壊れてしまった経験がある人なら、その苦しさがわかるでしょう。単に電球が壊れるだけではありません。ウェーハ全体がダメになってしまうという現実を目の当たりにするのです。細かいガラスの破片やタングステンフィラメントが基...

出血を止めるために：なぜファブではクォーツ製のシールドが必要なのか もし、ファブで高出力の加熱ランプを扱ったことがある人なら、その問題をよく知っているはずです。熱は、意図した場所だけに留まるわけではありません。熱は広がり、他の場所にも伝わってしまいます。 計画がない限り、その赤外線エネルギーはウェ...

半導体製造装置を「オーヴン」に変えないでください。 一般的な赤外線ランプには問題があります。それは、熱があらゆる方向に放出されてしまうという点です。そのようなランプを狭い処理室に詰め込むと、360度から熱が放出され、大変な問題となります。 実際、そのエネルギーの大部分はウェーハには当たらず、装置の...

UHP赤外線を使って、ファブの設備を真に「スマート」にする方法 もし、現代の半導体ファブを運営しているのであれば、ウルトラハイピュリティーのヒーターランプが熱エネルギー供給において不可欠な存在であることはご存知でしょう。しかし、単に熱を発生させるだけでは不十分です。インダストリー4.0の時代におい...

なぜ赤外線が無鉛処理に最適なのか 私たちがこの二重管式で金メッキ処理を施した赤外線ランプを開発したのは、半導体製造ラインのためです。なぜなら、乾燥や硬化処理を行う際には、迅速で信頼性の高い結果が求められるからです。 赤外線は直接対象物に当たり、周囲の空気を加熱する時間を無駄にしません。そのため、エ...

はじめに 想像してみてください。清潔な環境の中で半導体の加工を行っているとします。そこでは、正確な温度制御が求められます。汚れや混乱は一切許されず、完全な制御が必要です。まさに、私たちが開発したクリーンルーム用赤外線ランプは、そのために作られました。 このランプは、ウェハ上に直接、高密度の熱を与え...

ウェーハ乾燥用ランプ：長期間にわたって安定して使用でき、必要な時にはサポートが受けられる 私たちがこのウェーハ乾燥用ランプを製造するのは、ショールーム用としてではありません。これらは実際の生産現場向けに作られているのです。そこでは停止時間がコストに直結し、適切な温度管理が求められます。つまり、一貫...

製造現場において、SRDサイクルというのは、急速かつ高温で行われるプロセスです。すなわち、洗浄、乾燥、保持という工程が繰り返されます。もしIRランプの動作が遅くなったら、すぐに問題があるとわかります。ウェハーに筋ができたり、粒子が発生したり、数時間後になってからようやくフォトレジストの品質に問題が...

ファブの現場では、フォトレジストの熱特性が、線幅を安定させるために重要な要素となります。もしソフトベイクのプロファイルが不安定になると、レジストの厚みが乱れ、エッチングを行う前にすでに寸法制御が失われてしまいます。私たちは、このようなばらつきを解消するために、タングステンフィラメントを使用したクォ...

リソグラフィーの工程では、表面に付着しているわずかな水分が、ソフトベイクの工程を妨げることがあります。露光装置を使う前から、フォトレジストの厚みやCDの品質が乱れてしまいます。ホットプレートでは、ウェーハの裏面が過度に加熱されないようにしながら、迅速に水分を除去するのが難しく、その結果、パターンに...

ファブフロアでの重要性 フォトレジストの焼成中の温度ドリフトや、洗浄後の半乾燥ウェハーは学術的な問題ではなく、廃棄物です。我々は、プロセスウィンドウ内で熱制御を維持するために、1μmおよび2μmの赤外線波ランプを設計しました。これにより、キューが溜まっている場合や環境が影響を及ぼしている場合でも、...

リソグラフィ工程において、ソフトベイクの温度が0.5℃ずれるだけでクリティカルディメンションの管理が仕様外となる。ラインが停止し、ウェーハはスクラップされる。これを防ぐために、カーボンファイバー赤外線ランプシステムを開発した。工程ごとに温度を正確に固定し、シフトを通じて安定させる。 技術的に重要な...

Role ファブ現場では、フォトレジストのソフトベイクで0.5℃の温度変動がCD（Critical Dimension）を変化させること、そして乾燥ムラがエッジビーズを生じさせ、ランプのコストをはるかに超える損失を招くことを速やかに理解する。サーマルバジェットが厳しく、時間が限られている場合、赤外...

ファブフロアでは、クロックは止まることなく動き続ける。リソグラフィがペースを決め、その直後のベイク工程が歩留まりの維持または低下の分岐点となる。フォトレジストは安定した熱エネルギーを必要とする—ソフトベイクで溶剤を飛ばし寸法を固定し、ハードベイクでエッチング前にマスクを定着させる。ベイク工程の熱条...