Di lantai produksi, Anda tahu betapa cepatnya noda akibat proses pembersihan yang tidak sempurna atau cacat pada lapisan fotoresist dapat merusak seluruh batch produk. Langkah-langkah pengolahan termal inilah yang menentukan apakah kualitas produk tetap terjaga atau tidak. Kami menciptakan pemanas otomatis untuk mengeringkan wafer ini, agar proses pengeringan wafer, serta proses pemanasan fotoresist berjalan secara efektif. Kontrol suhu yang akurat sangat penting agar dimensi-dimensi kritis wafer tetap stabil, dan terhindar dari pembentukan lapisan tipis di permukaan wafer.
Yang penting dalam sistem ini Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek dan sistem pengukuran suhu berbasis loop tertutup untuk mempertahankan suhu pada tingkat ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Tingkat keseragaman suhu ini membantu menjaga stabilitas dimensi-dimensi kritis wafer, sekaligus mengurangi pembentukan lapisan tipis di permukaannya. Ruang kerja ini dirancang untuk digunakan dalam lingkungan cleanroom kelas 1–100, dengan permukaan yang halus dan aliran udara yang terkontrol, sehingga genangan partikel menjadi nol. Pengaturan suhu, laju pemanasan, dan waktu pemanasan pun diatur secara tepat, sehingga setiap proses pemanasan berjalan sama persis seperti sebelumnya.
Mengapa sistem ini efektif Dalam proses pengeringan wafer, alat ini mampu menghilangkan pelarut dengan cepat tanpa menyebabkan kesalahan dalam proses pemanasan, sehingga membantu mencegah kerusakan pola pada wafer. Alat ini juga dapat digunakan untuk proses pemanasan jenis “soft bake” maupun “hard bake” dengan suhu yang konsisten, sehingga meningkatkan daya rekat dan selektivitas proses etching. Respons termal yang cepat serta manajemen daya yang efisien membantu mengurangi konsumsi energi. Keandalan alat ini juga mengurangi waktu henti yang tidak diharapkan. Hasilnya adalah peningkatan kualitas produk, kontrol dimensi yang lebih baik, dan pengurangan jumlah pekerjaan ulang.
Detil-detil yang membuat alat ini berfungsi dengan baik Pemanas ini terintegrasi dengan sistem SECS/GEM serta peralatan pengolah wafer standar. Namun, kinerja maksimal alat ini bergantung pada pengaturan suhu udara keluar, suhu coolant, dan tegangan suplai yang sesuai dengan kondisi fasilitas produksi Anda. Pastikan Anda memiliki saluran udara yang sesuai untuk digunakan dalam lingkungan cleanroom, dan pastikan ukuran wafer serta alat penyangga wafer cocok dengan antarmuka mekanis alat ini. Dengan demikian, alat ini akan berfungsi sebagaimana mestinya, dari shift ke shift.