Di area litografi, sedikit kelembapan pada permukaan wafer pun dapat mengganggu proses pembakaran fotoresist. Anda akan kehilangan kendali atas ketebalan lapisan fotoresist dan kualitas CD sebelum proses eksposur dimulai. Piring panas pun kesulitan untuk menghilangkan kelembapan tersebut dengan cepat, tanpa menyebabkan overheating di sisi belakang wafer. Itulah mengapa terjadi distorsi pola pada wafer. Kami menciptakan lampu penghilang kelembapan khusus untuk mengatasi masalah ini—lampu ini hanya mendinginkan sisi depan wafer saja, dengan cepat, tanpa membuat konsumsi energi meningkat.
Lampu ini menggunakan elemen halogen berfrekuensi rendah yang berada di dalam selubung kuarza. Energi yang dihasilkan dapat dikendalikan dengan baik. Di area yang terkena sinar lampu, suhu tetap stabil pada kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitas pengaturan suhu sangat baik, yaitu dalam rentang beberapa derajat saja. Stabilitas seperti ini memastikan bahwa proses pembakaran fotoresist tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya.
Lampu ini dapat digunakan di ruang bersih kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah partikel debu. Desainnya yang ringan juga membantu mengurangi penundaan termal saat mengganti settingnya.
Dalam penggunaan sehari-hari, wafer yang masuk ke alat pengering ini memiliki lebih sedikit cacat akibat kelembapan, dan profil fotoresistnya pun menjadi lebih sempurna. Waktu proses pengeringan berkurang karena kelembapan dapat dihilangkan dalam hitungan detik, bukan menit. Konsumsi dayanya juga rendah dibandingkan dengan alat pengering wafer secara keseluruhan. Keandalan inilah yang sangat penting dalam proses produksi: alat ini telah beroperasi selama lebih dari 5.000 jam dengan penurunan kinerja kurang dari 5%, sehingga dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan.
Pemasangannya cukup sederhana, tetapi penyetelan sudut sinar lampu sangat penting. Lampu harus menerangi hanya sisi depan wafer saja, dan sudut sinarnya perlu disesuaikan dengan ukuran wafer agar tidak terjadi overheating di bagian tepinya. Butuh sedikit waktu untuk menyetel waktu dan intensitas cahaya agar lampu dapat bekerja sesuai dengan proses pembakaran fotoresist.
Manfaatnya sangat jelas: fotoresist akan berperilaku secara konsisten, kontrol kualitas CD tetap akurat, dan Anda tidak perlu membuang wafer yang rusak akibat kelembapan yang masuk di saat yang tidak tepat.