در فرآیند لیتوگرافی، هرگونه تغییر جزئی در دمای حرارت، حتی نیم درجه، به سرعت مشخص میشود؛ این امر منجر به تغییرات در عرض خطوط و کاهش بازدهی فرآیند میشود. شما سعی میکنید فرآیند را طبق استانداردها انجام دهید، اما ماژول حرارتی مانع از یکنواختی دمای ویفر میشود؛ همچنین تولید ذرات نیز باعث ایجاد مشکلات در اتاقهای پاکسازی میشود. روش گرمایش مبتنی بر اشعه مادون قرمز، هر دو مشکل را به طور همزمان حل میکند.
نکات فنی مهم:
فرستنده اشعه مادون قرمز، به طور مستقیم و سریع، ویفر را گرم میکند؛ در نتیجه یکنواختی دمای ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه حفظ میشود. تغییرات دما نیز در عرض چند صدم ثانیه اتفاق میافتد؛ بنابراین احتمال افزایش بیش از حد دما وجود ندارد. این دستگاه در اتاقهای پاکسازی درجه ۱ تا ۱۰۰ کار میکند و هیچ ذرهای تولید نمیشود؛ این موضوع از طریق نظارت لحظهای تأیید میشود. خروجی دستگاه در طول بیش از ۵۰۰۰ ساعت کار، پایدار باقی میماند؛ همچنین تغییرات شدت نور کمتر از ۵٪ است. ابعاد و رابطهای این دستگاه با تجهیزات استاندارد نیمههادی سازگار است؛ بنابراین میتوان آن را بدون نیاز به تغییراتی در فرآیند، در محیط کار قرار داد.
چرا این دستگاه در فرآیند پردازش فوتورزیست مؤثر است:
فرآیند پردازش فوتورزیست به الگوهای حرارتی قابل پیشبینی واجد اهمیت است. با استفاده از این دستگاه، فرآیندهای گرمایشی به خوبی انجام میشود؛ کنترل دقیق دما امکانپذیر میشود و نیاز به تکرار فرآیند کاهش مییابد. زمان لازم برای شروع فرآیند کاهش مییابد؛ در نتیجه زمان کلی فرآیند کوتاهتر میشود، بدون اینکه مصرف انرژی افزایش یابد. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا گرمایش هدفمند انجام میشود و اتلاف انرژی کم است. نتیجه: بازدهی پایدار، فواصل نگهداری قابل پیشبینی، و کاهش مشکلات ناشی از تغییرات دما.
نکاتی که باید در هنگام نصب در نظر بگیرید:
تنظیم درستی دستگاه ضروری است؛ تنظیمات نوری باید به گونهای باشد که بازتابهای ناخواسته از بین بروند. انتظار داشته باشید که نیاز به یک بازنگری کوتاه برای تنظیم عملکرد دستگاه وجود داشته باشد. این دستگاه با رابطهای استاندارد توان و کنترل کار میکند؛ اما باید از قبل برای مدیریت حرارت، اقدامات لازم را انجام دهید؛ تا اتاق کار سرد بماند، در حالی که ویفر گرم میشود.