Wafer on Leading IR Heating Supplier

Khoảng cách an toàn khi nung wafer

Mon, 27 Jul 2026 06:51:16 +0800

Tại sao chúng tôi chuyển sang phương pháp khử trùng bằng tia hồng ngoại cho các chip không chứa chì

Ngành bán dẫn đang nỗ lực hướng tới các tiêu chuẩn “không chứa chì” và thân thiện với môi trường. Đó là quyết định đúng đắn, nhưng nó khiến quy trình sản xuất trở nên phức tạp hơn một chút.

Trong thời gian dài, chúng tôi vẫn sử dụng lò sưởi thông thường để làm nóng các chi tiết bán dẫn. Nhưng thành thật mà nói, việc làm nóng cả một khoang khí rất chậm, và đó là sự lãng phí năng lượng. Vì vậy, chúng tôi chuyển sang phương pháp khử trùng bằng tia hồng ngoại. Thay vì làm nóng không khí, tia hồng ngoại truyền năng lượng trực tiếp vào bề mặt wafer. Không cần chất hóa học hay vật liệu tiêu hao nào cả. Chỉ cần nhiệt độ được truyền trực tiếp mà thôi.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Fri, 24 Jul 2026 11:42:04 +0800

Bảo vệ an toàn khi sử dụng các hóa chất dễ cháy trong quá trình làm sạch wafer

Nếu bạn đang vận hành các dây chuyền làm sạch wafer, bạn chắc hẳn đã biết rằng mình đang làm việc với những hóa chất dễ cháy. Hãy tưởng tượng việc đặt một bóng đèn IR có nhiệt độ cao vào môi trường này điều gì sẽ xảy ra? Đó chính là nguyên nhân gây ra thảm họa.

Bộ phản xạ ánh sáng dùng cho đèn làm khô wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:01:39 +0800

Giữ cho bề mặt wafer sạch sẽ (và giữ tâm trí bạn ổn định)
Nếu bạn đang vận hành phòng sạch loại Class 100, bạn chắc hẳn đã biết rõ những khó khăn mà nó mang lại. Chỉ cần có một hạt bụi nhỏ hay khí thải từ các loại đèn, toàn bộ sản phẩm của bạn sẽ bị hư hỏng. Khi chúng tôi thiết kế các bộ phản xạ ánh sáng và đèn sưởi dùng để xử lý wafer, chúng tôi luôn hướng tới một mục tiêu duy nhất: đảm bảo rằng không có gì có thể xâm nhập vào bề mặt silic của wafer.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Sun, 19 Jul 2026 15:59:39 +0800

Làm khô các tấm wafer MEMS một cách hiệu quả, không gây rắc rối
Khi làm khô các tấm wafer cảm biến MEMS, bạn phải cân nhắc kỹ lưỡng. Bạn cần loại bỏ chất lỏng trên bề mặt wafer càng nhanh càng tốt – nhưng nếu sử dụng lực nhiệt quá mạnh, bạn sẽ làm hỏng các cấu trúc vi mô tinh xảo trên wafer đó.

Trước đây, người ta thường sử dụng các lò sấy thông thường. Nhưng thực ra, việc làm nóng một lượng không khí lớn chỉ để làm khô một tấm wafer mỏng thật là lãng phí. Đó là lý do tại sao chúng tôi chuyển sang sử dụng các bóng đèn sưởi bằng sóng hồng ngoại ngắn. Đây là phương pháp hiệu quả hơn, đồng thời giúp giảm lượng khí thải carbon trong môi trường sản xuất.

Cảm biến nhiệt độ dành cho thiết bị xử lý wafer

Fri, 17 Jul 2026 06:02:08 +0800

Giữ cho môi trường làm việc ở cấp độ 100 luôn sạch sẽ
Khi làm nóng các tấm silic, nhiệt độ ban đầu chỉ là một yếu tố quan trọng trong số nhiều yếu tố khác. Trong môi trường cấp độ 100, một hạt bụi nhỏ cũng có thể gây hại nghiêm trọng – nó có thể phá hủy toàn bộ lô chip trong vài giây.

Đèn sấy wafer bán sỉ

Tue, 07 Jul 2026 06:53:48 +0800

Đèn sấy wafer dạng bán buôn: Bền bỉ, hỗ trợ tận tình mọi lúc bạn cần
Chúng tôi không sản xuất những chiếc đèn sấy wafer này chỉ để trưng bày trong cửa hàng. Chúng được thiết kế dành cho môi trường sản xuất thực tế – nơi mà việc gián đoạn quá trình sản xuất sẽ gây tổn thất lớn, và nhiệt độ cần được kiểm soát chặt chẽ. Mục đích của chúng rất đơn giản: cung cấp nguồn nhiệt ổn định và mạnh mẽ, giúp sấy khô wafer mà không làm giảm chất lượng sản phẩm.

Máy sấy wafer tự động

Wed, 01 Jul 2026 12:44:37 +0800

Trong quy trình sấy wafer, bạn biết đấy, chỉ cần có một vết bẩn nhỏ hoặc khuyết tật trên bề mặt wafer thôi cũng đã có thể làm hỏng toàn bộ lô sản phẩm rồi. Các bước xử lý nhiệt chính là yếu tố quyết định việc liệu sản phẩm có được giữ nguyên chất lượng hay không. Chúng tôi đã thiết kế máy sấy wafer tự động này để đáp ứng những yêu cầu khắt khe trong quy trình sấy wafer, xử lý lớp phủ photoresist… Máy này cho phép kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác, đảm bảo tính ổn định cần thiết trong quy trình sản xuất.

Đèn loại bỏ độ ẩm trong wafer

Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800

Trong môi trường sản xuất bằng kỹ thuật in khắc lithography, ngay cả một lượng hơi ẩm nhỏ trên bề mặt cũng có thể gây ra những sai lệch trong quá trình xử lý vật liệu phim quang học. Bạn sẽ mất kiểm soát độ dày của lớp phim quang học và chất lượng của các đĩa CD trước cả khi bắt đầu quá trình chiếu sáng. Các bề mặt nóng cũng khó có thể loại bỏ hơi ẩm một cách nhanh chóng mà không làm nóng phần sau của wafer; điều này dẫn đến sự biến dạng của các hoa văn trên bề mặt wafer. Chúng tôi đã thiết kế một thiết bị để loại bỏ hơi ẩm từ wafer một cách hiệu quả – thiết bị này chỉ làm khô mặt trước của wafer, với tốc độ nhanh, và không làm tăng nhiệt độ của wafer.