<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nhiệt Độ on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/vi/tags/nhi%E1%BB%87t-%C4%91%E1%BB%99/</link>
		<description>Recent content in Nhiệt Độ on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 17 Jul 2026 06:02:08 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/vi/tags/nhi%E1%BB%87t-%C4%91%E1%BB%99/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Cảm biến nhiệt độ dành cho thiết bị xử lý wafer</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/vi/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</link>
				<pubDate>Fri, 17 Jul 2026 06:02:08 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/vi/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Cảm biến nhiệt độ dành cho thiết bị xử lý wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Giữ cho môi trường làm việc ở cấp độ 100 luôn sạch sẽ&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Khi làm nóng các tấm &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;silic&lt;/a&gt;, nhiệt độ ban đầu chỉ là một yếu tố quan trọng &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;trong&lt;/a&gt; số nhiều yếu tố khác. Trong môi trường cấp độ 100, một hạt bụi nhỏ cũng có thể gây hại nghiêm trọng – nó có thể phá hủy toàn bộ lô chip trong vài giây.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Nhiệt độ nướng mềm lớp nhạy quang IR</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/vi/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/vi/posts/photoresist-soft-bake-temperature-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Nhiệt độ nướng mềm lớp nhạy quang IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên tầng lithography, một bước soft bake lệch dù chỉ 2°C cũng làm sai lệch ngân sách nhiệt của photoresist. Việc giữ lại dung môi tăng cao. Độ đồng đều kích thước chữ (CD) bị ảnh hưởng. Sự khác biệt này quyết định đến việc một mẻ sản xuất đạt hay loại bỏ. Chúng tôi đã thiết kế &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;module&lt;/a&gt; soft bake hồng ngoại để loại bỏ biến động đó.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Điều cần lưu ý về mặt kỹ thuật&lt;br&gt;&#xA;Bộ phát IR sử dụng thạch anh sóng ngắn, làm nóng trực tiếp bề mặt &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; mà không tiếp xúc vật lý. Kiểm soát nhiệt giữ ổn định ±0.1°C trên toàn bộ wafer, độ lặp lại trong khoảng ±0.2°C giữa các mẻ. Hồ sơ nhiệt phản ứng nhanh: mất 15 giây để ổn định, giúp giảm thời gian bake mà không vượt nhiệt độ mục tiêu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
