Fab on Leading IR Heating Supplier

Vỏ thiết bị sưởi bằng thép không gỉ

Mon, 27 Jul 2026 06:28:26 +0800

Tại sao chúng ta chuyển từ phương pháp sưởi bằng không khí nóng sang phương pháp sưởi bằng tia hồng ngoại trong quy trình chế tạo bán dẫn?

Nếu bạn đã từng làm việc với phương pháp sưởi bằng không khí nóng, bạn chắc hẳn hiểu rõ cách thức hoạt động của nó. Chúng ta đun nóng không khí, sau đó hy vọng rằng luồng không khí này sẽ làm nóng các bộ phận cần được xử lý. Trong ngành chế tạo bán dẫn, “không khí” chính là yếu tố gây lãng phí thời gian.

Vỏ bảo vệ bằng thủy tinh thạch anh dành cho đèn phát sáng.

Wed, 22 Jul 2026 04:25:30 +0800

Ngăn chặn sự lan truyền nhiệt: Tại sao các thiết bị trong phòng sản xuất cần có lớp bảo vệ bằng thạch anh
Nếu bạn từng làm việc gần những chiếc đèn sưởi công suất cao trong môi trường sản xuất, bạn chắc hẳn đã biết vấn đề này. Nhiệt lượng không chỉ tỏa ra theo hướng mà chúng ta muốn; nó còn lan tỏa khắp nơi.

Nếu không có biện pháp kiểm soát, năng lượng hồng ngoại sẽ ảnh hưởng đến mọi thứ – không chỉ các tấm wafer mà còn cả các bộ phận bên trong thiết bị. Chẳng mấy chốc, các bức tường bên trong thiết bị sẽ bị nóng đến mức nguy hiểm, dẫn đến việc thiết bị phải ngừng hoạt động, hoặc tệ hơn nữa, có người có thể bị bỏng nặng.

Các giải pháp sản xuất bền vững

Sat, 18 Jul 2026 04:11:55 +0800

Bảo vệ thiết bị của bạn khi môi trường làm việc trở nên nguy hiểm
Nếu bạn làm việc trong lĩnh vực sản xuất bán dẫn, bạn chắc hẳn biết rằng việc làm sạch bằng hóa chất là điều không thể tránh khỏi. Nhưng những chất dung môi dễ bay hơi này lại gây ra nhiều rủi ro về mặt an toàn. Nếu kết hợp thêm đèn hồng ngoại vào quy trình này, thì nguy cơ xảy ra hỏa hoạn sẽ tăng lên đáng kể.

Nâng cấp thiết bị phòng sạch trong nhà máy

Fri, 17 Jul 2026 06:31:11 +0800

Điều chỉnh nhiệt độ một cách thông minh trong nhà máy thông minh
Nếu bạn đang hướng tới mô hình nhà máy 4.0, chắc hẳn bạn đã nhận ra rằng phương pháp sưởi ấm truyền thống không còn hiệu quả nữa. Phương pháp sưởi bằng luồng khí thông thường rất chậm. Giống như việc cố gắng làm ấm một ngôi nhà bằng nến vậy – mất rất nhiều thời gian.

Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng hệ thống sưởi bằng tia hồng ngoại. Thay vì chờ đợi luồng khí di chuyển, hệ thống này trực tiếp truyền nhiệt vào vật thể cần được làm nóng. Bạn có thể đạt được nhiệt độ mong muốn trong vài giây thôi. Điều này thay đổi hoàn toàn quy trình sản xuất.

Bộ điều chỉnh điện áp dành cho thiết bị IR

Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800

Trong quy trình sản xuất, chất phản ứng ánh sáng rất nhạy cảm với nhiệt độ. Chỉ cần có sự thay đổi nhiệt độ 1°C trong quá trình nung, kích thước của các chi tiết được tạo ra sẽ bị lệch mục tiêu, và khả năng chọn lọc khi tiến hành quá trình etching cũng bị ảnh hưởng. Hãy coi giai đoạn sưởi ấm bằng tia hồng ngoại như một nguồn nhiệt thông thường; nếu không, bạn sẽ gặp nhiều vấn đề. Điều quan trọng là phải duy trì độ ổn định của điện áp để đảm bảo sự đồng đều về nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer.

Đèn hồng ngoại sợi carbon fab

Thu, 04 Jun 2026 03:32:15 +0800

Trên tầng lithography, chỉ cần một lần soft bake chênh lệch nửa độ là đủ để làm sai lệch kiểm soát kích thước quan trọng. Dây chuyền phải dừng lại. Wafers bị loại bỏ. Chúng tôi đã xây dựng hệ thống đèn hồng ngoại sợi carbon để ngăn điều đó xảy ra — bằng cách khóa nhiệt độ chính xác ở mức cần thiết cho quy trình, ca làm việc này đến ca làm việc khác.
Điều quan trọng về mặt kỹ thuật
Đèn phát hồng ngoại sợi carbon đạt nhiệt độ nhanh, ổn định với phản ứng nhanh và khối lượng nhiệt thấp. Bạn có được sự đồng đều trên bề mặt bake ở mức ±0.1°C trên từng wafer, giúp soft bake và hard bake nằm trong giới hạn nhiệt đã định. Tương thích với phòng sạch cấp 1–100 không phải là điều ngẫu nhiên: vật liệu thải khí thấp, vỏ đèn kín và đường dẫn không hạt giữ cho tỷ lệ thành phẩm bảo vệ trên wafer, không phải trong không khí. Khả năng lặp lại công suất duy trì liên tục, dữ liệu tuổi thọ hỗ trợ hơn 5,000 giờ trước khi công suất giảm quá 5%.
Tại sao nó hiệu quả trong thực tế
Trong chế tạo và đóng gói wafer, chu trình nhiệt là cố định — không thể thương lượng. Đèn này theo kịp tốc độ spin track và các module coat/bake, rút ngắn thời gian bake mà không mất kiểm soát cấu hình nhiệt. Khả năng lặp lại chặt chẽ hơn nghĩa là ít lô tái xử lý hơn và ít trường hợp lệch nhiệt do trôi nhiệt độ. Tiêu thụ năng lượng giảm vì hệ thống làm nóng nhanh, giữ điểm đặt ổn định và tránh vượt nhiệt. Với kỹ sư thiết bị và người mua, điều này thể hiện qua thời gian hoạt động cao hơn, chi phí trên mỗi wafer thấp hơn và ít phụ tùng dự phòng tồn kho hơn.
Các chi tiết đảm bảo hiệu quả
Việc lắp đặt đơn giản trên khung tiêu chuẩn, nhưng vẫn cần kiểm tra căn chỉnh và trường nhìn cho từng buồng bake. Chồng chéo tạo điểm nóng; khoảng trống tạo cạnh lạnh. Giữ đèn trong phạm vi điện áp quy định và giữ cửa sổ phát xạ sạch bằng cách sử dụng khí làm mát phù hợp — bụi trên cửa sổ sẽ gây ra không đồng đều nhiệt. Xử lý thiết bị như bất kỳ công cụ nhiệt quan trọng nào: lên kế hoạch kiểm tra hiệu chuẩn định kỳ.

Kiểm toán năng lượng cho quá trình sấy vải

Tue, 02 Jun 2026 06:05:10 +0800

Trong nhà máy, sấy không chỉ đơn thuần là một bước cần hoàn thành. Đây là bước nhiệt cuối cùng trước khi bạn khóa chặt sản lượng, và nó định hướng cho các công đoạn tiếp theo. Khi vùng nhiệt nóng bị lệch hoặc hồ sơ năng lượng không được kiểm soát, bạn sẽ nhận biết ngay—vết biên cạnh xuất hiện, dung môi tồn đọng trong rãnh, và lớp photoresist chống lại bạn trong quá trình hard bake. Hóa đơn cho những vấn đề đó là việc làm lại, phế phẩm, và chi phí ngầm của năng lượng bị lãng phí.

Đèn sấy hồng ngoại được chứng nhận cho nhà máy sản xuất

Sun, 31 May 2026 04:46:38 +0800

Trên sàn sản xuất, thời gian chạy liên tục không ngừng. Lithography quyết định nhịp độ, và bước bake ngay sau khi phơi sáng là nơi tỉ lệ thu hồi sản phẩm giữ ổn định hoặc bắt đầu giảm sút. Photoresist cần năng lượng nhiệt ổn định — Soft Bake để đẩy dung môi ra và cố định kích thước, Hard Bake để định hình mặt nạ trước khi vào bước etch. Nếu bước bake bị lệch dù chỉ một chút, bạn sẽ thấy kiểm soát kích thước quan trọng bị trôi, cặn bẩn xuất hiện sau khi rửa tráng, và khả năng chọn lọc của etch bị suy giảm. Bạn không cần thêm nhiệt độ. Bạn cần nhiệt độ lặp lại được, được cung cấp đúng nơi quy trình yêu cầu, mà không làm phát sinh hạt bụi hay biến động.