<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вольфрам on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/uk/tags/%D0%B2%D0%BE%D0%BB%D1%8C%D1%84%D1%80%D0%B0%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Вольфрам on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 05:00:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/uk/tags/%D0%B2%D0%BE%D0%BB%D1%8C%D1%84%D1%80%D0%B0%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа з вольфрамовим філаментом та кварцовою колбою</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/uk/posts/tungsten-filament-quartz-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 05:00:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/uk/posts/tungsten-filament-quartz-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Лампа з вольфрамовим філаментом та кварцовою колбою&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії саме термічні характеристики фоторезисту визначають точність розмірів елементів на пластинці. Якщо процес нагрівання не буде контрольований, товщина фоторезисту стане нерівномірною, а контроль критичних розмірів буде неможливим ще до початку процедури ет&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;ching&lt;/a&gt;у. Ми створили кварцові лампи з вольфрамовим філаментом, які дозволяють усунути ці нерівномірності – стабільний тепловий випромінювання саме там, де це необхідно для процесу.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що насправді має значення&lt;/strong&gt;&#xA;Усередині лампи вольфрамовий філамент знаходиться в корпусі з високочистого кварцу, що забезпечує чисте та контрольоване інфрачервоне випромінювання. На поверхні пластинки досягається термічна однорідність при значенні ±0,1°C. Це дозволяє ефективно видаляти розчинники під час процедури нагрівання, а також забезпечує стабільне процесу зв’язування молекул фоторезисту під час більш інтенсивного нагрівання. Система може працювати у чистих приміщеннях класу 1–100 без жодних проблем, а її продуктивність залишається стабільною протягом понад 5 000 годин – зміна інтенсивності випромінювання становить менше 5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
