<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Назад on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B0%D0%B7%D0%B0%D0%B4/</link>
		<description>Recent content in Назад on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 12:23:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/ru/tags/%D0%BD%D0%B0%D0%B7%D0%B0%D0%B4/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Подогреватель поддержки обратного шлифования пластин</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ru/posts/wafer-back-grinding-support-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:23:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/ru/posts/wafer-back-grinding-support-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Подогреватель поддержки обратного шлифования пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На 300mm линии, утонение подложек непосредственно перед резкой — это этап, на котором тепловой стресс приводит к потере выхода годных изделий. Подогреватель поддержки, который сбоить или резко повышать температуру во время обратного шлифования, может привести к трещинам на тонких подложках и появлению микротрещин, проявляющихся позже как дефекты. Мы разработали наш подогреватель поддержки для обратного шлифования с целью устранить эту неопределённость и поддерживать стабильное и равномерное тепло в наиболее уязвимых зонах подложки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Основой является массив кварцевых излучателей коротковолнового инфракрасного диапазона, настроенный для быстрого локального нагрева с равномерностью по подложке ±0,1°C. Повторяемость температуры сохраняется на уровне ±0,5°C при сменах смен и в течение срока службы ламп, что обеспечивает соблюдение теплового бюджета для каждой подложки. Горячая зона изолирована от механической платформы, что эффективно сводит к нулю образование частиц.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
