Na linha de produção, o rendimento depende da temperatura. Uma variação de 0,5°C no aquecedor MOCVD durante a epitaxia do GaN resulta em irregularidades na espessura das camadas formadas, além de wafers que precisam ser descartados e falhas na obtenção dos resultados desejados. Nós desenvolvemos nosso aquecedor infravermelho MOCVD para eliminar essa variação.
O que é importante por trás disso tudo
O núcleo do aquecedor é feito de radiação infravermelha de onda curta, o que permite um controle preciso do campo térmico, com precisão de até ±0,1°C em todo o suporte onde ocorre a reação química. Além disso, a repetibilidade do sistema garante que as condições térmicas se mantenham constantes de ciclo em ciclo. A resposta do sistema ao calor é rápida, evitando que as temperaturas ultrapassem os valores desejados. O perfil térmico permanece estável mesmo após manutenções, trocas de equipamentos ou mudanças nas condições de fluxo de ar da sala limpa. O design do aquecedor é adequado para salas limpas de classe 1–100, sem geração de partículas e com desempenho estável mesmo após mais de 5.000 horas de uso.
Por que ele funciona bem no processo MOCVD de GaN
No processo MOCVD de GaN, a estabilidade térmica é fundamental para garantir a qualidade das camadas formadas e reduzir a densidade de defeitos. Ao manter a área quente sob controle, é possível atingir os valores ideais de temperatura, reduzindo assim a quantidade de wafers que precisam ser descartados e encurtando os ciclos de teste.
Essa mesma precisão também é útil nas etapas de cura do fotoresisto – tanto na cura leve quanto na cura intensiva. Isso permite um melhor controle das dimensões críticas e reduz problemas relacionados às bordas das camadas formadas. Além disso, como o sistema consegue manter a temperatura de maneira precisa, é necessário menos energia para operá-lo.
Detalhes práticos
A instalação do aquecedor depende da geometria da linha de visão e do alinhamento da janela de quartzo. Qualquer desalinhamento de algumas décimas de milímetro faz com que a área quente se desplace. É necessário usar um sistema de alimentação elétrica dedicado, com conexão à terra adequada, para evitar interferências eletromagnéticas no sistema de controle térmico. Qualquer alteração nos componentes de quartzo exige uma recalibração rápida, mas, uma vez configurado, o perfil térmico permanece estável.