<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Verwijdering on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/nl/tags/verwijdering/</link>
		<description>Recent content in Verwijdering on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/nl/tags/verwijdering/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafern</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/nl/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling kan zelfs een klein beetje vocht op het oppervlak het proces verstoren. Hierdoor raak je de controle over de dikte van de fotoresist en de kwaliteit van de CDs kwijt, nog voor je überhaupt met de belichtingsapparatuur begint te werken. hete platen hebben &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;moeite&lt;/a&gt; om het vocht snel genoeg te verwijderen, zonder dat de achterkant van de wafer wordt opgewarmd. Hierdoor ontstaan er afwijkingen in het patroon. We hebben een lamp ontworpen die het vocht effectief kan verwijderen – alleen de voorzijde van de wafer wordt drooggemaakt, snel en zonder dat de thermische balans wordt verstoord.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
