Op de lithografieafdeling kan zelfs een klein beetje vocht op het oppervlak het proces verstoren. Hierdoor raak je de controle over de dikte van de fotoresist en de kwaliteit van de CDs kwijt, nog voor je überhaupt met de belichtingsapparatuur begint te werken. hete platen hebben moeite om het vocht snel genoeg te verwijderen, zonder dat de achterkant van de wafer wordt opgewarmd. Hierdoor ontstaan er afwijkingen in het patroon. We hebben een lamp ontworpen die het vocht effectief kan verwijderen – alleen de voorzijde van de wafer wordt drooggemaakt, snel en zonder dat de thermische balans wordt verstoord.
De lamp bevat korte golflengte-halogeen-elementen die zich bevinden in een kwartsomhulsel. Deze elementen zorgen ervoor dat de energie snel en gecontroleerd wordt afgegeven. In het gebied dat wordt belicht, is de nauwkeurigheid van de temperatuur ±0,1°C. De herhaalbaarheid van de instellingen blijft ook hoog – binnen een paar graden. Deze stabiliteit zorgt er namelijk voor dat de profielen van de fotoresist niet verschillen van lot tot lot.
De lamp kan worden gebruikt in zuiverruimten van klasse 1–100, zonder dat dit invloed heeft op het aantal deeltjes in de lucht. Het lichte ontwerp zorgt er bovendien voor dat er minder thermische vertraging optreedt wanneer de instellingen worden gewijzigd.
In de dagelijkse gebruik zorgen de lampen ervoor dat er minder defecten ontstaan door vocht. De tijd die nodig is om het vocht te verwijderen, is slechts enkele seconden, in plaats van minuten. De energieverbruik blijft laag vergeleken met andere apparaten die worden gebruikt voor het drogen van wafer. De betrouwbaarheid van deze lampen is zeer hoog: ze kunnen meer dan 5.000 uur draaien met minder dan 5% verminderde prestaties. Hierdoor kan er 24/7 gewerkt worden, zonder onverwachte stilstand.
De installatie is eenvoudig, maar het is belangrijk dat de lamp alleen het voorste deel van de wafer verlicht. De hoek van het licht moet overeenkomen met de grootte van de wafer, zodat de randen niet te heet worden. Er is een korte inrichtingsperiode nodig om de juiste instellingen vast te stellen, zodat de lamp goed kan functioneren tijdens het droogproces.
Het voordeel is duidelijk: de fotoresist gedraagt zich voorspelbaar, de controle over de kwaliteit van de CDs blijft goed, en er hoeft geen materiaal weggegooid te worden omdat er op het verkeerde moment vocht in de wafer terechtkwam.