<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Wafel on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/ms/tags/wafel/</link>
		<description>Recent content in Wafel on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:44:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/ms/tags/wafel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas pengering wafer secara automatik</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/automated-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:44:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/automated-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanas pengering wafer secara automatik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pengeluaran wafer yang canggih ini, anda pasti tahu betapa cepatnya kesan kotoran akibat proses pembersihan menggunakan air atau kecacatan pada lapisan photoresist boleh merosakkan keseluruhan wafer tersebut. Langkah-langkah pemanasan memainkan peranan penting dalam menentukan sama ada kualiti wafer dapat dikekalkan atau tidak. Kami telah mencipta pemanas automatik untuk proses pengeringan wafer ini, agar suhu dapat dikawal dengan tepat mengikut keperluan proses litografi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikal&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek serta sistem pengukuran suhu berlitar tertutup untuk memastikan suhu tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C pada permukaan wafer. Keseragaman suhu ini membantu mengekalkan dimensi wafer yang stabil dan mengurangkan pembentukan lapisan kotoran pada permukaan wafer. Bilik pengeringan ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih tahap 1–100, dengan permukaan yang licin serta aliran udara yang terkawal, sehingga jumlah zarah debu dapat diminimumkan. Tetapan suhu, kadar pemanasan, dan masa pemanasan ditetapkan dengan tepat, agar setiap proses pemanasan berjalan dengan sama seperti sebelumnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
