<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Voltan on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/ms/tags/voltan/</link>
		<description>Recent content in Voltan on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/ms/tags/voltan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Penyeragam voltan untuk fab IR</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Penyeragam voltan untuk fab IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran, bahan photoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan dimensi kritikal bahan tersebut tidak tepat, dan keupayaan untuk mengisi lubang-lubang pada permukaan wafer juga akan terjejas. Anggaplah proses pemanasan menggunakan sinar inframerah sebagai sumber haba biasa; ini akan menimbulkan masalah. Kestabilan voltan lampu merupakan faktor penting yang memastikan suhu permukaan wafer kekal stabil.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita perlu menentukan nilai voltan yang sesuai pada sistem pemanasan inframerah, agar keluaran lampu tetap stabil, walaupun voltan bekalan berubah-ubah. Dengan cara ini, suhu permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C. Hasilnya, proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten, dan bahan pelarut photoresist dapat dikeluarkan dengan efektif. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai dengan menjaga agar bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berlebihan, serta menghindari adanya zarah-zarah yang boleh merosakkan permukaan wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
