Suhu on Leading IR Heating Supplier

Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer

Fri, 17 Jul 2026 06:02:35 +0800

Menjaga Kebersihan Bilik Bersih Kelas 100
Ketika memanaskan wafer silikon, suhu semata-mata bukanlah faktor yang penting. Dalam persekitaran Kelas 100, sekecil zarah debu pun boleh merosakkan keseluruhan kumpulan cip tersebut dalam masa beberapa saat sahaja.

Itulah sebabnya kami meninggalkan penggunaan pemanas jenis resistif tradisional. Pemanas jenis ini cenderung untuk menghasilkan zarah-zarah tertentu dan “melepaskan gas”, yang akan merosakkan tahap kebersihan bahan tersebut. Sebaliknya, kami menggunakan lampu IR daripada kuarsa berkualiti tinggi. Ini merupakan cara yang lebih efektif untuk memanaskan bahan tersebut.

Suhu pembakaran lembut fotoresis IR

Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800

Pada lantai litografi, soft bake yang melayang walaupun 2°C boleh mengganggu bajet terma photoresist. Penahanan pelarut meningkat. Keseragaman CD terjejas. Perbezaan itu membezakan antara lot yang baik dan sisa. Kami membina modul soft bake inframerah untuk menghapuskan variabiliti tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikal
Pemancar IR menggunakan kuarza gelombang pendek, memanaskan permukaan wafer secara langsung—tanpa sentuhan. Kawalan suhu mengekalkan ±0.1°C di seluruh wafer, dan kebolehulangan berada dalam ±0.2°C dari lot ke lot. Profil cepat: 15 saat untuk penstabilan, jadi masa bake dapat dipendekkan tanpa overshoot.