<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pemindahan on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/ms/tags/pemindahan/</link>
		<description>Recent content in Pemindahan on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/ms/tags/pemindahan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses litografi, sedikit kelembapan pada permukaan boleh mengganggu proses pembakaran yang dilakukan. Ini akan menyebabkan ketidakstabilan dalam ketebalan lapisan fotoresist dan juga pada cakera CD. Papan pemanas mungkin sukar untuk menghilangkan kelembapan tersebut &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;dengan&lt;/a&gt; cepat, tanpa memanaskan bahagian belakang wafer. Inilah sebabnya berlaku distorsi pada corak yang dihasilkan. Kami telah mencipta lampu khusus untuk menghilangkan kelembapan pada wafer, agar proses pembakaran dapat berjalan dengan lancar—tanpa mempengaruhi suhu wafer.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Lampu ini menggunakan unsur halogen berfrekuensi rendah yang terletak di dalam selubung kuarsa. Energi yang dihasilkan dapat dikawal dengan baik. Kestabilan suhu di kawasan yang diproses adalah sekitar ±0.1°C, dan nilai tetapnya sangat &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;tepat&lt;/a&gt;—dalam beberapa darjah sahaja. Kestabilan ini memastikan bahawa profil proses pembakaran tidak berubah dari satu batch ke batch yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
