http://ir-heating-supply.com/ms/tags/pemancar/ Recent content in Pemancar on Leading IR Heating Supplier Hugo ms Mon, 27 Jul 2026 09:19:22 +0800 http://ir-heating-supply.com/ms/posts/reducing-cycle-times-in-semiconductor-processing-via-ir-emitters-and-ceramic-end-caps/ Mon, 27 Jul 2026 09:19:22 +0800 http://ir-heating-supply.com/ms/posts/reducing-cycle-times-in-semiconductor-processing-via-ir-emitters-and-ceramic-end-caps/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Hujung seramik untuk pemancar IR"></p> <h1 id="mengapa-kita-berpaling-daripada-penggunaan-udara-terpaksa-kepada-sistem-pemanasan-ir">Mengapa Kita Berpaling Daripada Penggunaan Udara Terpaksa kepada Sistem Pemanasan IR</h1> <p>Fikirkan bagaimana cara kerja udara terpaksa. Sebenarnya, kita memanaskan udara terlebih dahulu, dan berharap udara tersebut dapat membawa tenaga tersebut ke permukaan wafer atau substrat yang ingin dipanaskan. Masalahnya ialah proses ini sangat lambat. Dalam dunia pemprosesan semikonduktor, kelewatan ini merupakan pembaziran masa.</p> <p>Itulah sebabnya kita menggunakan pengeluar haba jenis inframerah (IR). Daripada menggunakan udara sebagai pengantara, IR menghantar tenaga secara langsung ke permukaan yang ingin dipanaskan. Tenaga tersebut sampai dengan serta-merta, tanpa perlu ada pengantara atau masa menunggu.</p> http://ir-heating-supply.com/ms/posts/linear-infrared-heating-emitter/ Wed, 24 Jun 2026 04:06:23 +0800 http://ir-heating-supply.com/ms/posts/linear-infrared-heating-emitter/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pemancar haba inframerah linear"></p> <p>Di bahagian proses litografi, sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan garisan pada permukaan wafer, dan ini seterusnya akan menurunkan kualiti hasil pengeluaran. Walaupun anda berusaha untuk memastikan suhu tetap stabil, namun masalah ketidakseragaman suhu antara pelbagai bahagian wafer masih wujud. Selain itu, kehadiran zarah-zarah kecil dalam bilik bersih juga menjadi masalah. Penggunaan pemanas inframerah linear dapat menyelesaikan kedua-dua masalah ini sekaligus.</p> <p><strong>Apa yang <a href="https://henruite.com">penting</a> dari segi teknikal:</strong><br> Pemanas inframerah linear ini memanaskan wafer dengan cepat, dan mampu mengekalkan suhu pada tahap yang seragam, iaitu dalam lingkungan ±0.1°C. Perubahan <a href="https://goldisgood.com">setting</a> suhu berlaku dalam masa beberapa saat sahaja, jadi risiko suhu melampaui had yang ditetapkan dapat dielakkan. Pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, di mana tiada zarah-zarah kecil yang terbentuk, seperti yang dapat dilihat melalui pemantauan secara langsung. Output pemanas ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penyimpangan intensiti kurang dari 5%. Saiz dan antaramuka pemanas ini sesuai dengan peralatan semikonduktor biasa, jadi ia boleh digunakan tanpa perlu mengubah susunan peralatan lain dalam bilik pengeluaran.</p>