IR on Leading IR Heating Supplier

Hujung seramik untuk pemancar IR

Mon, 27 Jul 2026 09:19:22 +0800

Mengapa Kita Berpaling Daripada Penggunaan Udara Terpaksa kepada Sistem Pemanasan IR

Fikirkan bagaimana cara kerja udara terpaksa. Sebenarnya, kita memanaskan udara terlebih dahulu, dan berharap udara tersebut dapat membawa tenaga tersebut ke permukaan wafer atau substrat yang ingin dipanaskan. Masalahnya ialah proses ini sangat lambat. Dalam dunia pemprosesan semikonduktor, kelewatan ini merupakan pembaziran masa.

Itulah sebabnya kita menggunakan pengeluar haba jenis inframerah (IR). Daripada menggunakan udara sebagai pengantara, IR menghantar tenaga secara langsung ke permukaan yang ingin dipanaskan. Tenaga tersebut sampai dengan serta-merta, tanpa perlu ada pengantara atau masa menunggu.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Fri, 24 Jul 2026 11:42:04 +0800

Mengelakkan Bahaya Semasa Memanaskan Bahan Kimia yang Mudah Terbakar
Jika anda mengendalikan mesin pembersihan wafer, anda pasti tahu bahawa anda sedang bekerja dengan wap bahan kimia yang mudah terbakar. Bayangkan jika lampu IR berkuasa tinggi dimasukkan ke dalam campuran tersebut… itu merupakan cara yang buruk untuk mencipta bencana.

Itulah sebabnya kami tidak sekadar “membuat lampu” saja. Kami membina sistem IR ini dengan pengasingan yang ketat. Ia sebenarnya merupakan pelindung yang melindungi komponen elektrik dan permukaan kuarsa yang panas daripada terkena wap berbahaya tersebut.

Pemanas garaj jenis IR yang dipasang pada dinding

Sat, 04 Jul 2026 10:59:16 +0800

Mengapa Kita Memilih Pemanas IR Berstandar Tinggi yang Tahan Air
Kami menciptakan pemanas untuk garaj yang dipasang di dinding menggunakan teknologi inframerah, atas satu sebab mudah saja: ia mampu menghantar haba ke tempat yang diperlukan, bukannya hanya memanaskan udara sahaja.

Dalam bilik mandi moden pula, pemanas IR yang tahan air semakin digunakan menggantikan pemanas jenis lampu lama. Ini memang masuk akal; pemanas ini memberikan haba yang tepat pada sasaran, dan ia juga tahan terhadap kelembapan.

Proses pengerasan bahan underfill untuk semikonduktor jenis IR

Tue, 30 Jun 2026 05:07:02 +0800

Di ruang pengeluaran, proses pematangan bahan underfill merupakan faktor yang menentukan kualiti akhir produk tersebut. Sebarang perubahan suhu yang sedikit sekalipun boleh menyebabkan masalah seperti adanya rongga dalam bahan tersebut, masalah berkaitan struktur bahan tersebut, atau ketidaksesuaian nilai CTE. Semua ini akan memberi kesan negatif terhadap ujian kebolehpercayaan produk. Kami telah merancang sistem pematangan menggunakan sinar inframerah agar haba dapat disalurkan ke tempat yang sepatutnya, iaitu ke dalam bahan itu sendiri, tanpa mempengaruhi komponen lain di sekelilingnya.

Penyeragam voltan untuk fab IR

Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800

Di fasiliti pengeluaran, bahan photoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan dimensi kritikal bahan tersebut tidak tepat, dan keupayaan untuk mengisi lubang-lubang pada permukaan wafer juga akan terjejas. Anggaplah proses pemanasan menggunakan sinar inframerah sebagai sumber haba biasa; ini akan menimbulkan masalah. Kestabilan voltan lampu merupakan faktor penting yang memastikan suhu permukaan wafer kekal stabil.

Apa yang penting di sebaliknya
Kita perlu menentukan nilai voltan yang sesuai pada sistem pemanasan inframerah, agar keluaran lampu tetap stabil, walaupun voltan bekalan berubah-ubah. Dengan cara ini, suhu permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C. Hasilnya, proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten, dan bahan pelarut photoresist dapat dikeluarkan dengan efektif. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai dengan menjaga agar bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berlebihan, serta menghindari adanya zarah-zarah yang boleh merosakkan permukaan wafer.

Suhu pembakaran lembut fotoresis IR

Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800

Pada lantai litografi, soft bake yang melayang walaupun 2°C boleh mengganggu bajet terma photoresist. Penahanan pelarut meningkat. Keseragaman CD terjejas. Perbezaan itu membezakan antara lot yang baik dan sisa. Kami membina modul soft bake inframerah untuk menghapuskan variabiliti tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikal
Pemancar IR menggunakan kuarza gelombang pendek, memanaskan permukaan wafer secara langsung—tanpa sentuhan. Kawalan suhu mengekalkan ±0.1°C di seluruh wafer, dan kebolehulangan berada dalam ±0.2°C dari lot ke lot. Profil cepat: 15 saat untuk penstabilan, jadi masa bake dapat dipendekkan tanpa overshoot.