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		<title>治癒 on Leading IR Heating Supplier</title>
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		<description>Recent content in 治癒 on Leading IR Heating Supplier</description>
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				<title>ウェーハ硬化ランプ用反射板</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ja/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 23 Jul 2026 12:01:39 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;ウェーハ硬化ランプ用反射板&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ウエハーの硬化処理をクリーンに保つために（そして、心の平穏を保つために）&lt;br&gt;&#xA;もし、クラス100のクリーンルームで作業を行っているのであれば、その苦労はよくご存知でしょう。わずかなガスの発生や、ランプから飛び出す微粒子だけで、全体の製品が台無しになってしまいます。ウエハーの硬化処理用の反射器や加熱ランプを設計する際、私たちは一つの目標を持っています。それは、シリコン表面に何も付着しないようにすることです。&lt;/p&gt;</description>
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				<title>半導体IR用のアンダーフィルの硬化</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ja/posts/underfill-curing-for-semiconductor-ir/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 05:07:02 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;半導体IR用のアンダーフィルの硬化&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;製造現場において、アンダーフィルの硬化処理は、熱的な要因が実際の歩留まりに影響を与える重要な段階です。数度の温度変動であっても、気泡やフィレットの問題、またはCTEの不一致が生じ、信頼性試験時に問題となります。私たちは、赤外線を利用したアンダーフィル硬化装置を開発しました。これにより、熱が本来あるべき場所、つまり材料内部に留まり、周囲の装置には影響が及びません。&lt;/p&gt;</description>
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				<title>認定赤外線硬化ランプ製造</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/ja/posts/certified-infrared-curing-lamp-fab/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 04:46:38 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;認定赤外線硬化ランプ製造&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブフロアでは、クロックは止まることなく動き続ける。リソグラフィがペースを決め、その直後のベイク工程が歩留まりの維持または低下の分岐点となる。フォトレジストは安定した熱エネルギーを必要とする—ソフトベイクで溶剤を飛ばし寸法を固定し、ハードベイクでエッチング前にマスクを定着させる。ベイク工程の熱条件がわずかにずれるだけで、クリティカルディメンションの管理が乱れ、現像後にスカムが発生し、エッチング選択性が崩壊する。必要なのはより強い熱ではなく、プロセスに必要な場所に繰り返し安定した熱を、粒子や変動を増やすことなく供給することである。&lt;/p&gt;</description>
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