http://ir-heating-supply.com/ja/tags/%E3%82%A6%E3%82%A7%E3%83%BC%E3%83%8F/ Recent content in ウェーハ on Leading IR Heating Supplier Hugo ja Mon, 27 Jul 2026 06:51:06 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/technical-analysis-of-infrared-curing-for-lead-free-semiconductor-wafer-drying/ Mon, 27 Jul 2026 06:51:06 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/technical-analysis-of-infrared-curing-for-lead-free-semiconductor-wafer-drying/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="ウェーハ加熱時の安全距離"></p> <p>なぜ<a href="https://henruite.com">無鉛</a>チップの製造に赤外線硬化法を採用するのか<br> 半導体業界では、「無鉛」で環境に優しい仕様へと移行しようとしています。これは正しい方向性ですが、製造工程をより複雑にしてしまいます。<br> 長年にわたり、私たちは対流式のオーブンを利用してきました。しかし正直に言うと、大量の空気を加熱するのは時間がかかり、エネルギーの無駄遣いにもなります。そこで、赤外線硬化法を採用するようになったのです。赤外線は空気を温める代わりに、エネルギーを直接ウェハの表面に送り込みます。化学薬品や重い消耗品も不要で、クリーンで直接的な熱源となります。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/ensuring-safety-and-stability-of-ir-heating-lamps-in-volatile-chemical-cleaning-environments/ Fri, 24 Jul 2026 11:42:04 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/ensuring-safety-and-stability-of-ir-heating-lamps-in-volatile-chemical-cleaning-environments/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="ウェーハ用高精度IRセンサー"></p> <p>揮発性化学物質を加熱する際の安全対策<br> ウェーハ洗浄ラインを運用している方なら、危険な化学物質の蒸気を扱っていることはご存知でしょう。そこに高温のIRランプを加えるとどうなるでしょうか？それは大惨事を招く結果になります。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ Thu, 23 Jul 2026 12:01:39 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="ウェーハ硬化ランプ用反射板"></p> <p>ウエハーの硬化処理をクリーンに保つために（そして、心の平穏を保つために）<br> もし、クラス100のクリーンルームで作業を行っているのであれば、その苦労はよくご存知でしょう。わずかなガスの発生や、ランプから飛び出す微粒子だけで、全体の製品が台無しになってしまいます。ウエハーの硬化処理用の反射器や加熱ランプを設計する際、私たちは一つの目標を持っています。それは、シリコン表面に何も付着しないようにすることです。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Sun, 19 Jul 2026 15:59:35 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="MEMSセンサウェーハ乾燥ヒーター"></p> <p>MEMSウエハーを乾燥させる際には、細心の注意が必要です。液体をすばやく除去する必要がありますが、力を入れすぎると、微細で繊細な微細構造が破壊されてしまいます。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Fri, 17 Jul 2026 06:01:59 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="ウェーハ処理装置用温度センサー"></p> <p>クラス100のクリーンルームを実際に清潔な状態に保つために<br> シリコンウエハを加熱する際、単に温度を上げるだけでは<a href="https://henruite.com">不十分</a>です。クラス100の環境では、ほんの小さなほこりの粒子でさえも、まるで手榴弾のような存在です。それによって、<a href="https://o-yate.net">数秒</a>で大量のチップが破壊されてしまいます。</p> <p>そのため、私たちは従来の抵抗式ヒーターを使わないようにしています。そうしたヒーターは、粒子を放出したりガスを発生させたりする傾向があり、純度維持にとっては大敵です。代わりに、高純度の石英製のIRランプを使用しています。これにより、よりクリーンな環境で作業が行えます。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/automated-wafer-drying-heater/ Wed, 01 Jul 2026 12:44:37 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/automated-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="自動ウェーハ乾燥ヒーター"></p> <p>ファブの現場では、わずかな水分やフォトレジストの欠陥が、一括してウェーハ全体の品質を損なってしまうことがあります。熱処理の段階で、どれだけ品質が維持されるかが決まります。私たちは、ウェーハの乾燥やフォトレジストのソフトベイク、ハードベイクにおいて、リソグラフィーに求められる安定した温度制御を実現するために、この自動ウェーハ乾燥ヒーターを<a href="https://goldisgood.com">開発</a>しました。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="ウェーハ水分除去ランプ"></p> <p>リソグラフィーの工程では、表面に付着しているわずかな水分が、ソフトベイクの工程を妨げることがあります。露光装置を使う前から、フォトレジストの厚みやCDの品質が乱れてしまいます。ホットプレートでは、ウェーハの裏面が過度に加熱されないようにしながら、迅速に水分を除去するのが難しく、その結果、パターンに歪みが生じます。私たちは、この問題を解決するために、ウェーハの表面のみを効率的に乾燥させる装置を開発しました。これにより、熱負荷も抑えられます。</p> http://ir-heating-supply.com/ja/posts/wafer-back-grinding-support-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:23:39 +0800 http://ir-heating-supply.com/ja/posts/wafer-back-grinding-support-heater/ <p><img src="http://ir-heating-supply.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="ウェハー裏面研削用加熱器"></p> <h1 id="role">Role</h1> <p>300mmラインにおいて、ダイシング直前のウェーハ薄膜化は熱応力が歩留まり損失に転じる工程である。バックグラインディング中にドリフトやスパイクを起こすサポートヒーターは、薄いウェーハを割り、後に不良として現れる微小クラックの種をまく。われわれはその不確実性を排除し、基板が最も脆弱な箇所で熱を安定かつ均一に保つバックグラインディング用サポートヒーターを開発した。<br> その心臓部は短波長赤外線の石英エミッターアレイであり、高速かつ局所的な加熱にチューニングされており、ウェーハレベルで±0.1℃の均一性を<a href="https://goldisgood.com">実現</a>している。温度の再現性はシフト交代やランプ寿命を通じて±0.5℃以内に維持され、熱予算がすべてのウェーハで<a href="https://o-yate.net">仕様内</a>に収まる。加熱ゾーンは機械ステージから独立しているため、パーティクル発生は実質的にゼロである。<br> クリーンルームクラス1–100に対応しており、熱経路上のすべての表面はアウトガスや剥離を最小化する仕様となっている。<br> バックグラインディングでは、応力を緩和し接着を維持するために熱が必要だが、フォトレジストの軟化やバックエンド膜の破損は許されない。われわれのヒーターは設定温度に数秒で到達し、スピンドル負荷の変動下でも温度を安定保持し、24時間365日の連続運転で計画外のダウンタイムは発生しない。これにより、エッジチップの減少、スクラップ率の低減、ロット全体での厚み制御の安定化が実現される。<br> 設置はチャックとキャリアインターフェースの寸法を合わせることに尽きる。一般的なプラットフォームにはレトロフィットキットが用意されているが、アライメントの許容差は厳しい。PID制御プロファイルをフィルムスタックとスピンドルの稼働サイクルに合わせて調整するため、短期間の立ち上げ試験を見込むべきである。<br> 一度較正されれば、プロセスウィンドウは開き続ける。</p>