Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer

Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800

Nelle aree di litografia, anche una piccola quantità di umidità sulla superficie può compromettere il processo di essiccazione del fotorest. Si perde così il controllo sull’espessore del fotorest e sui CD, prima ancora di poter utilizzare lo strumento per l’esposizione. Le piastre riscaldanti faticano a eliminare rapidamente quell’umidità, senza però surriscaldare la parte posteriore dei wafer; ed è proprio in questo caso che si verificano distorsioni nei disegni presenti sui wafer. Abbiamo quindi creato una lampada per l’eliminazione dell’umidità dai wafer, in modo da risolvere definitivamente questo problema: asciugatura solo della superficie anteriore, in modo rapido e senza influire negativamente sulle proprietà termiche del wafer.

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Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer