Regolatore di tensione per fab IR

Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800

Nelle strutture di produzione, il fotorest è estremamente sensibile alla temperatura. Una variazione di 1°C durante i processi di riscaldamento può far sì che le dimensioni critiche del fotorest non siano più corrette; inoltre, la selettività dell’etching ne risente negativamente. È quindi importante trattare lo stadio di riscaldamento a infrarossi come una fonte di calore standard: solo così si può ottenere un’omogeneità termica adeguata su tutta la superficie del wafer.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Per mantenere stabile l’output della lampada, anche quando la tensione di rete varia, è necessario utilizzare un regolatore di tensione. In questo modo si riesce a mantenere la temperatura del wafer entro ±0,1°C sulla superficie interessata dal riscaldamento. Il risultato è una precisione elevata nei processi di riscaldamento, con una rimozione efficiente dei solventi presenti nel fotorest. Le aree di produzione di classe 1–100 richiedono che i materiali utilizzati abbiano un basso tasso di emissione di gas, e che l’architettura delle strutture di produzione sia ottimizzata: nessun tipo di detrito o particella che possa raggiungere il wafer o le superfici trattate.

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