<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Tegangan on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/id/tags/tegangan/</link>
		<description>Recent content in Tegangan on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/id/tags/tegangan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Regulator tegangan untuk fab IR</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/id/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/id/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Regulator tegangan untuk fab IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lingkungan pabrik, fotorezist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan akan mengakibatkan perubahan pada dimensi kritis fotorezist, dan selektivitas proses etching pun akan terganggu. Anggaplah tahap pemanasan dengan sinar IR sebagai sumber panas biasa; hal ini justru akan menimbulkan masalah. Yang penting adalah stabilitas tegangan lampu, karena hal itulah yang memungkinkan terciptanya keseragaman suhu di permukaan wafer.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;litografi&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Stabilisator&lt;/a&gt; tegangan pada sistem IR sangat penting untuk menjaga keluaran lampu tetap konstan, bahkan ketika tegangan listrik berubah. Dengan demikian, suhu wafer dapat dikendalikan pada kisaran ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hasilnya adalah proses pemanasan yang konsisten, sehingga proses etching berjalan lebih baik. Kelas ruang bersih 1–100 dapat dicapai dengan memastikan bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, serta dengan desain sistem yang efektif—tidak ada &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;partikel&lt;/a&gt; yang dapat mencemari wafer atau lapisan fotorezist.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
