Suhu on Leading IR Heating Supplier

Sensorn suhu untuk alat pemrosesan wafer

Fri, 17 Jul 2026 06:02:24 +0800

Mempertahankan kebersihan ruang kerja kelas 100 yang sebenarnya
Saat memanaskan wafer silikon, suhu saja tidaklah cukup untuk memastikan kualitasnya. Di lingkungan kelas 100, sekumpulan debu sekecil apa pun bisa berbahaya—debu tersebut dapat merusak seluruh batch chip dalam hitungan detik.

Itulah mengapa kita beralih dari pemanas resistif tradisional. Pemanas jenis ini cenderung menghasilkan partikel-partikel kecil dan gas berbahaya, yang tentu saja merusak kemurnian chip tersebut. Sebagai gantinya, kita menggunakan lampu IR berbahan kuarsa berkualitas tinggi. Ini merupakan cara yang jauh lebih efektif untuk memanaskan wafer.

Suhu pemanggangan lunak photoresist IR

Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800

Pada lantai litografi, soft bake yang bergeser bahkan 2°C saja sudah mengganggu thermal budget photoresist. Retensi pelarut meningkat. Uniformitas CD terganggu. Perbedaan itu adalah batas antara lot yang diterima dan buangan. Kami merancang modul infrared soft bake untuk menghilangkan variabilitas tersebut.

Apa yang penting secara teknis
Emitter IR menggunakan kuarsa gelombang pendek, memanaskan permukaan wafer secara langsung—tanpa kontak. Kontrol suhu mempertahankan ±0,1°C di seluruh wafer, dan repeatabilitas tetap dalam ±0,2°C antar lot. Profilnya cepat: stabil dalam 15 detik, sehingga waktu bake dapat dipersingkat tanpa overshoot.