Mengobati on Leading IR Heating Supplier

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Thu, 23 Jul 2026 12:01:39 +0800

Mempertahankan Kebersihan Permukaan Wafer Selama Proses Pemanasan
Jika Anda mengelola ruang bersih kelas 100, Anda pasti tahu betapa berbahayanya situasinya. Sedikit saja gas yang keluar dari lampu atau partikel kecil yang terlepas dari lampu tersebut, maka seluruh produk yang diproses akan rusak. Saat merancang reflektor dan lampu pemanas untuk proses pemanasan wafer, tujuan utamanya adalah memastikan bahwa tidak ada benda apa pun yang menempel pada permukaan silikon tersebut.

Rahasia Ada di Kuartz
Kami menggunakan kuartz sintetis berkualitas tinggi untuk lampu-lampu ini. Mengapa? Karena kaca biasa tidak mampu bertahan terhadap panas yang tinggi; kaca tersebut akan retak akibat shock termal. Namun, kuartz berbeda. Kuartz berfungsi sebagai “jendela transparan” bagi radiasi inframerah, sehingga radiasi tersebut dapat melewati kuartz tanpa diserap. Untuk memastikan panas sampai ke tempat yang tepat, kami menggunakan reflektor kuartz yang dibuat dengan presisi tinggi. Dengan cara ini, energi panas tidak akan tersia-sia, melainkan langsung dipantulkan kembali ke wafer. Cara ini efisien dan efektif.

Pengerasan underfill untuk semikonduktor IR

Tue, 30 Jun 2026 05:07:02 +0800

Di fasilitas produksi, proses pengeringan bahan underfill inilah yang menentukan tingkat keandalan produk tersebut. Sedikit saja perubahan suhu dapat menyebabkan munculnya cacat seperti rongga atau masalah terkait CTE, yang pada akhirnya akan berdampak negatif pada hasil tes keandalan. Kami merancang sistem pengeringan underfill menggunakan sinar inframerah sehingga panas tetap berada di tempat yang seharusnya: di dalam bahan itu sendiri, dan bukan di bagian peralatan di sekitarnya.

Yang penting secara teknis: Kami menyesuaikan emitor sinar inframerah agar sesuai dengan profil penyerapan bahan underfill berbasis epoxy. Dengan demikian, energi sinar inframerah dapat masuk ke dalam bahan tanpa merusak芯片 atau substratnya. Tingkat reproduktibilitas suhu mencapai ±0,1°C di area pengeringan, dan kestabilan suhu tetap terjaga jika optik dan alat pengontrolnya disesuaikan dengan baik. Pemanasnya dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100, dengan permukaan yang bebas dari partikel debu, serta desain yang tidak menghasilkan gas berbahaya. Energi yang dihasilkan tetap stabil selama 24/7, dan modul lampunya dirancang untuk bertahan hingga 5.000 jam dengan penurunan kinerja yang minimal—sehingga mengurangi risiko kerusakan yang tak terduga.

Lampu penyembuhan inframerah bersertifikat fab

Sun, 31 May 2026 04:46:38 +0800

Di lantai produksi, waktu berjalan tanpa henti. Lithography menentukan ritme, dan langkah bake tepat setelah exposure adalah titik di mana yield bisa stabil atau mulai menurun. Photoresist membutuhkan energi termal yang konsisten—Soft Bake untuk mengeluarkan pelarut dan mengunci dimensi, Hard Bake untuk menetapkan masker sebelum proses etch. Jika proses bake terganggu sedikit saja, pengendalian dimensi kritis akan melayang, residu muncul setelah development, dan selektivitas etch menjadi tidak stabil. Anda tidak butuh panas lebih; Anda butuh panas yang dapat diulang, disalurkan tepat di area proses, tanpa menambah partikel atau variabilitas.