Emiter pemanas inframerah linear

Wed, 24 Jun 2026 04:06:23 +0800

Di area litografi, perubahan suhu sekecil setengah derajat saja sudah dapat terdeteksi dengan cepat; hal ini menyebabkan variasi lebar garis pada permukaan wafer, sehingga kualitas hasil produksi menurun. Meskipun Anda berusaha memenuhi spesifikasi yang ditetapkan, modul pemanas justru menghambat pencapaian keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer. Selain itu, adanya partikel-partikel kecil juga membuat lingkungan ruang bersih menjadi tidak stabil. Pemanas inframerah tipe linear mampu mengatasi kedua masalah tersebut sekaligus.

Yang penting secara teknis:
Pemanas inframerah tipe linear bekerja dengan cepat dan secara langsung memanaskan wafer, sehingga keseragaman suhu di permukaan wafer tetap terjaga dalam rentang ±0,1°C. Perubahan nilai suhu terjadi dalam waktu kurang dari satu detik, sehingga tidak ada risiko suhu melebihi batas yang ditentukan. Pemanas ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, di mana tidak ada partikel-partikel kecil yang terbentuk, sebagaimana yang dikonfirmasi melalui pemantauan secara langsung. Daya keluaran pemanas tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan intensitas kurang dari 5%. Ukuran dan antarmuka pemanas ini sesuai dengan standar peralatan semikonduktor, sehingga dapat dipasang tanpa perlu mengubah desain ruang proses.

Linier on Leading IR Heating Supplier

Emiter pemanas inframerah linear