<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kelembapan on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/id/tags/kelembapan/</link>
		<description>Recent content in Kelembapan on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/id/tags/kelembapan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/id/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/id/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area litografi, sedikit kelembapan pada permukaan wafer pun dapat mengganggu proses pembakaran fotoresist. Anda akan kehilangan kendali atas ketebalan lapisan fotoresist dan kualitas CD sebelum proses eksposur dimulai. Piring panas pun kesulitan untuk menghilangkan kelembapan tersebut dengan cepat, tanpa menyebabkan overheating di sisi belakang wafer. Itulah mengapa terjadi distorsi pola pada wafer. Kami menciptakan lampu penghilang kelembapan khusus untuk mengatasi masalah ini—lampu ini hanya mendinginkan sisi depan wafer saja, dengan cepat, tanpa membuat konsumsi energi meningkat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
