IR on Leading IR Heating Supplier

Ujung pelindung keramik untuk pemancar IR

Mon, 27 Jul 2026 09:19:22 +0800

Mengapa Kami Beralih Dari Sistem Pemanasan dengan Udara Terpaksa ke Sistem Pemanasan IR
Coba pikirkan bagaimana cara kerja sistem pemanasan dengan udara terpaksa. Pada dasarnya, udara digunakan sebagai “perantara” untuk menghantarkan energi panas ke permukaan wafer atau substrat. Masalahnya? Proses ini sangat lambat. Dalam dunia pengolahan semikonduktor, keterlambatan ini merupakan pemborosan waktu yang sia-sia.

Itulah sebabnya kami menggunakan pemancar inframerah (IR). Alih-alih menggunakan udara sebagai perantara, IR langsung mengirimkan energi panas ke targetnya. Energi tersebut sampai ke target dalam waktu singkat. Tidak ada perantara, tidak perlu menunggu.

Sensor IR berkualitas tinggi untuk wafer

Fri, 24 Jul 2026 11:42:04 +0800

Mengamankan Bahan Kimia yang Mudah Terbakar Saat Dipanaskan
Jika Anda bekerja di fasilitas pembersihan wafer, Anda pasti tahu betapa berbahayanya bahan kimia yang mudah terbakar tersebut. Bayangkan saja jika kita memasukkan lampu IR berkekuatan tinggi ke dalam campuran tersebut. Itu merupakan cara yang sangat berisiko untuk menimbulkan kecelakaan.

Itulah sebabnya kami tidak sekadar membuat lampu biasa. Kami merancang sistem IR dengan lapisan pelindung khusus. Lapisan ini berfungsi sebagai penghalang agar uap berbahaya tersebut tidak sampai ke terminal listrik dan komponen-komponen yang panas.

Pemanas garasi tipe IR yang dipasang di dinding

Sat, 04 Jul 2026 10:59:16 +0800

Mengapa Kita Memilih Pemanas IR Berstandar Tinggi yang Tahan Air
Kami membuat pemanas untuk garasi yang dipasang di dinding, menggunakan teknologi inframerah, karena alasan sederhana: teknologi ini mampu menghasilkan panas tepat di tempat yang dibutuhkan, bukan hanya memanaskan udara sekitarnya saja.

Di kamar mandi modern, pemanas IR tahan air semakin populer digunakan sebagai pengganti pemanas berbentuk lampu lama. Hal ini masuk akal, karena pemanas tipe ini dapat menghasilkan panas secara cepat, dan dirancang untuk tahan terhadap kelembapan.

Pengerasan underfill untuk semikonduktor IR

Tue, 30 Jun 2026 05:07:02 +0800

Di fasilitas produksi, proses pengeringan bahan underfill inilah yang menentukan tingkat keandalan produk tersebut. Sedikit saja perubahan suhu dapat menyebabkan munculnya cacat seperti rongga atau masalah terkait CTE, yang pada akhirnya akan berdampak negatif pada hasil tes keandalan. Kami merancang sistem pengeringan underfill menggunakan sinar inframerah sehingga panas tetap berada di tempat yang seharusnya: di dalam bahan itu sendiri, dan bukan di bagian peralatan di sekitarnya.

Yang penting secara teknis: Kami menyesuaikan emitor sinar inframerah agar sesuai dengan profil penyerapan bahan underfill berbasis epoxy. Dengan demikian, energi sinar inframerah dapat masuk ke dalam bahan tanpa merusak芯片 atau substratnya. Tingkat reproduktibilitas suhu mencapai ±0,1°C di area pengeringan, dan kestabilan suhu tetap terjaga jika optik dan alat pengontrolnya disesuaikan dengan baik. Pemanasnya dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom kelas 1–100, dengan permukaan yang bebas dari partikel debu, serta desain yang tidak menghasilkan gas berbahaya. Energi yang dihasilkan tetap stabil selama 24/7, dan modul lampunya dirancang untuk bertahan hingga 5.000 jam dengan penurunan kinerja yang minimal—sehingga mengurangi risiko kerusakan yang tak terduga.

Regulator tegangan untuk fab IR

Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800

Di lingkungan pabrik, fotorezist sangat sensitif terhadap perubahan suhu. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan akan mengakibatkan perubahan pada dimensi kritis fotorezist, dan selektivitas proses etching pun akan terganggu. Anggaplah tahap pemanasan dengan sinar IR sebagai sumber panas biasa; hal ini justru akan menimbulkan masalah. Yang penting adalah stabilitas tegangan lampu, karena hal itulah yang memungkinkan terciptanya keseragaman suhu di permukaan wafer.

Apa yang penting dalam proses litografi Stabilisator tegangan pada sistem IR sangat penting untuk menjaga keluaran lampu tetap konstan, bahkan ketika tegangan listrik berubah. Dengan demikian, suhu wafer dapat dikendalikan pada kisaran ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hasilnya adalah proses pemanasan yang konsisten, sehingga proses etching berjalan lebih baik. Kelas ruang bersih 1–100 dapat dicapai dengan memastikan bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, serta dengan desain sistem yang efektif—tidak ada partikel yang dapat mencemari wafer atau lapisan fotorezist.

Suhu pemanggangan lunak photoresist IR

Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800

Pada lantai litografi, soft bake yang bergeser bahkan 2°C saja sudah mengganggu thermal budget photoresist. Retensi pelarut meningkat. Uniformitas CD terganggu. Perbedaan itu adalah batas antara lot yang diterima dan buangan. Kami merancang modul infrared soft bake untuk menghilangkan variabilitas tersebut.

Apa yang penting secara teknis
Emitter IR menggunakan kuarsa gelombang pendek, memanaskan permukaan wafer secara langsung—tanpa kontak. Kontrol suhu mempertahankan ±0,1°C di seluruh wafer, dan repeatabilitas tetap dalam ±0,2°C antar lot. Profilnya cepat: stabil dalam 15 detik, sehingga waktu bake dapat dipersingkat tanpa overshoot.