वेफर से नमी हटाने हेतु लैंप

Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800

लिथोग्राफी प्रक्रिया में, सतह पर मौजूद नमी के कारण प्रक्रिया में बाधा आ सकती है। एक्सपोजर टूल का उपयोग करने से पहले ही फोटोरेसिस्ट की मोटाई एवं सीडीओं का नियंत्रण खो जाता है। हॉट प्लेट्स के द्वारा उस फिल्म को जल्दी से हटाना मुश्किल होता है; ऐसे में पैटर्न में विकृति आ जाती है। हमने इस समस्या को हल करने हेतु एक विशेष लैंप बनाया – जिससे केवल वेफर की सामने वाली सतह ही सूखती है, एवं ऐसा तेज़ी से होता है, बिना वेफर के पिछले हिस्से को गर्म किए।
यह लैंप क्वार्ट्ज आवरण के अंदर शॉर्ट-वेव हेलोजन तत्वों का उपयोग करता है; इससे ऊर्जा तेज़ी से एवं नियंत्रित तरीके से निकलती है। एक्सपोज्ड क्षेत्र में तापमान में ±0.1°C की समानता रहती है, एवं सेटपॉइंट की पुनरावृत्ति भी सटीक रहती है – कुछ डिग्री के भीतर ही। ऐसी स्थिरता के कारण फोटोरेसिस्ट की गुणवत्ता हर बार समान रहती है।
यह लैंप क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में भी काम कर सकता है; इसके डिज़ाइन के कारण वेफरों को बदलने पर भी तापमान में कोई बदलाव नहीं होता।
वास्तविक उपयोग में, वेफर इस ड्रायर में आने के बाद ड्यूवेटिंग दोष कम हो जाते हैं, एवं फोटोरेसिस्ट की गुणवत्ता भी बेहतर हो जाती है। नमी हटने में कुछ सेकंड ही लगते हैं; इसलिए साइकिल समय भी कम हो जाता है। पूरे वेफर को सूखाने की तुलना में ऊर्जा खपत भी कम रहती है। इसकी विश्वसनीयता बहुत अच्छी है – यह लैंप 5,000+ घंटों तक काम कर सकता है, एवं आउटपुट में 5% से भी कम कमी आती है।
इसकी स्थापना आसान है; लेकिन लैंप को सही तरीके से संरेखित करना आवश्यक है। लैंप को केवल वेफर की सामने वाली सतह पर ही रोशनी देनी चाहिए, एवं बीम का कोण वेफर के आकार के अनुरूप होना चाहिए, ताकि वेफर के किनारों पर अतिरिक्त गर्मी न पड़े। लैंप की गतिविधियों को सही ढंग से समायोजित करने हेतु थोड़ा समय आवश्यक है।
इसका फायदा यह है कि फोटोरेसिस्ट का व्यवहार पूर्वानुमेय रहता है, सीडीओं का नियंत्रण भी सटीक रहता है, एवं गलत समय पर नमी के कारण होने वाली समस्याओं से बचा जा सकता है।

हटाना on Leading IR Heating Supplier

वेफर से नमी हटाने हेतु लैंप