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		<title>सुरक्षा on Leading IR Heating Supplier</title>
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		<description>Recent content in सुरक्षा on Leading IR Heating Supplier</description>
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				<title>वेफर को गर्म करने हेतु सुरक्षा दूरी</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/hi/posts/technical-analysis-of-infrared-curing-for-lead-free-semiconductor-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Mon, 27 Jul 2026 06:50:28 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;वेफर को गर्म करने हेतु सुरक्षा दूरी&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;हम लीड-फ्री चिप्स के निर्माण हेतु इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग क्यों कर रहे हैं?&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;सेमीकंडक्टर उद्योग “लीड-फ्री” एवं पर्यावरण-अनुकूल मानकों की ओर बढ़ रहा है। यह सही कदम है… लेकिन इससे चिपों के निर्माण की प्रक्रिया थोड़ी जटिल हो जाती है।&lt;br&gt;&#xA;लंबे समय तक हमने कंवेक्शन ओवनों का ही उपयोग किया। लेकिन ईमानदारी से कहें तो, हवा को गर्म करना बहुत धीमी प्रक्रिया है… यह ऊर्जा का अपव्यय है। इसीलिए हमने इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग शुरू किया। इन्फ्रारेड तकनीक में हवा को गर्म करने के बजाय, ऊर्जा सीधे वेफर की सतह तक पहुँचती है… कोई रासायनिक घटक नहीं, कोई भारी सामग्री नहीं… बस साफ, सीधी ऊष्मा।&lt;/p&gt;</description>
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