<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>לחות on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/he/tags/%D7%9C%D7%97%D7%95%D7%AA/</link>
		<description>Recent content in לחות on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>he</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/he/tags/%D7%9C%D7%97%D7%95%D7%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>מנורה להסרת לחות מוופרים</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/he/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/he/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;מנורה להסרת לחות מוופרים&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;על גבי שטח הליתוגרפיה, כמות קטנה של לחות על פני השטח יכולה לפגוע בתהליך הייבוש. כך נאבד שליטה על עובי שכבת הפוטורזיסט ועל איכות ה-CDs, עוד לפני שמשתמשים בכלי החשיפה. הכיריים החמות עלולות שלא להצליח לייבש את השכבה במהירות מספקת, מבלי לחמם את הצד האחורי של הוואפר – וזה בדיוק הרגע שבו מתחילות להופיע עיוותים בתבניות. פיתחנו נורה להסרת לחות מהוואפר, שמאפשרת ייבוש מהיר ויעיל, מבלי לפגוע באיכות הוואפר.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;המכשיר משתמש ברכיבי הלוגן בגלי אור קצרים, המונחים במעטפת קוורץ, כדי לשחרר אנרגיה במהירות ובשליטה. באזור החשוף, רמת האחידות היא ±0.1°C, ורמת הדיוק גבוהה מאוד – בתוך מספר מעטים של מעלות בלבד. יציבות כזו מבטיחה שתהליכי הייבוש יהיו עקביים מלוט ללוט.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
