על גבי שטח הליתוגרפיה, כמות קטנה של לחות על פני השטח יכולה לפגוע בתהליך הייבוש. כך נאבד שליטה על עובי שכבת הפוטורזיסט ועל איכות ה-CDs, עוד לפני שמשתמשים בכלי החשיפה. הכיריים החמות עלולות שלא להצליח לייבש את השכבה במהירות מספקת, מבלי לחמם את הצד האחורי של הוואפר – וזה בדיוק הרגע שבו מתחילות להופיע עיוותים בתבניות. פיתחנו נורה להסרת לחות מהוואפר, שמאפשרת ייבוש מהיר ויעיל, מבלי לפגוע באיכות הוואפר.
המכשיר משתמש ברכיבי הלוגן בגלי אור קצרים, המונחים במעטפת קוורץ, כדי לשחרר אנרגיה במהירות ובשליטה. באזור החשוף, רמת האחידות היא ±0.1°C, ורמת הדיוק גבוהה מאוד – בתוך מספר מעטים של מעלות בלבד. יציבות כזו מבטיחה שתהליכי הייבוש יהיו עקביים מלוט ללוט.
המכשיר יכול לפעול בחדרים נקיים מסוג Class 1–100, מבלי להגדיל את מספר החלקיקים באוויר. העיצוב הקל שלו מפחית את העיכוב התרמי כאשר משנים את ההגדרות שלו.
בשימוש יומיומי, הוואפרים נכנסים למכשיר הייבוש, וכך יש פחות פגמים כתוצאה מלחות. זמן הייבוש קצר יותר, מכיוון שהלחות נעלמת תוך שניות בלבד, וצריכת האנרגיה נמוכה יותר בהשוואה למכשירים אחרים. האמינות של המכשיר גבוהה מאוד – הוא כבר פעל למעלה מ-5,000 שעות, עם ירידה של פחות מ-5% באיכות המוצר, וכך ניתן להמשיך את הפעולה 24/7 ללא הפסקות בלתי צפויות.
ההתקנה פשוטה, אך ההתאמה של המכשיר היא החלק החשוב. הנורה צריכה להאיר רק את הצד הקדמי של הוואפר, ויש צורך שזווית הקרינה תהיה מתאימה לגודל הוואפר, כדי שלא לחמם יתר על המידה את הקצוות. יש צורך בזמן קצר של כיול כדי להתאים את זמן הפעולה ועוצמת הקרינה, כך שהמכשיר יפעל בהרמוניה עם תהליך הייבוש.
התוצאה היא פשוטה: שכבת הפוטורזיסט תפעל בצורה צפויה, שליטה באיכות ה-CDs תהיה עקבית, ולא יהיה צורך לזרוק את הוואפרים בגלל לחות שחדרה ברגע הלא נכון.