Capteur de température pour outil de wafer

Fri, 17 Jul 2026 06:01:45 +0800

Comment maintenir une salle propre de classe 100 vraiment propre
Lorsque l’on chauffe des plaques de silicium, la température elle-même n’est que moitié de l’équation. Dans un environnement de classe 100, un seul petit grain de poussière peut être considéré comme une bombe : il peut détruire toute une série de puces en quelques secondes à peine.

C’est pourquoi nous avons abandonné les chauffeurs résistifs traditionnels. Ceux-ci produisent des particules et émettent des gaz, ce qui est un véritable désastre pour la pureté. À la place, nous utilisons des lampes infrarouges en quartz de haute pureté. C’est une façon beaucoup plus propre de travailler.

Température de cuisson douce du photorésist IR

Mon, 08 Jun 2026 05:05:57 +0800

Sur le plan de lithographie

Un soft bake qui dérive même de 2°C perturbe le budget thermique du photoresist. La rétention de solvant augmente. L’uniformité des dimensions critiques est affectée. Cette différence fait la ligne entre un bon lot et des déchets. Nous avons conçu notre module de soft bake infrarouge pour éliminer cette variabilité.

Ce qui compte techniquement

L’émetteur IR utilise du quartz à ondes courtes, chauffant directement la surface de la plaquette—sans contact. Le contrôle de la température maintient un écart de ±0.1°C sur la plaquette, et la répétabilité reste dans une fourchette de ±0.2°C d’un lot à l’autre. Le profil est rapide : 15 secondes pour la stabilisation, ce qui réduit le temps de cuisson sans dépassement.

Température on Leading IR Heating Supplier

Capteur de température pour outil de wafer

Température de cuisson douce du photorésist IR

Sur le plan de lithographie

Ce qui compte techniquement