<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Régulateur on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/fr/tags/r%C3%A9gulateur/</link>
		<description>Recent content in Régulateur on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/fr/tags/r%C3%A9gulateur/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Régulateur de tension pour fab IR</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/fr/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:49:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/fr/posts/voltage-regulator-for-fab-ir/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Régulateur de tension pour fab IR&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dans les usines de lithographie, le photorésiste est extrêmement sensible à la température. Une variation de 1 °C pendant le processus de cuisson peut faire dévier les dimensions critiques du photorésiste de leurs valeurs prévues, ce qui affecte également la sélectivité du procédé d’etchage. Il faut donc traiter l’élement de chauffage par rayonnement infrarouge comme une source de chaleur ordinaire. La stabilité de la tension de la lampe est essentielle pour assurer une uniformité thermique au niveau des wafers.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
