Lampe de suppression de l humidité des wafer

Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800

Sur le plateau de lithographie, une légère humidité à la surface peut perturber le processus de séchage du photorésistant. On perd ainsi le contrôle sur l’épaisseur du photorésistant et sur les caractéristiques des disques optiques, avant même d’utiliser l’appareil d’exposition. Les plaques chauffantes ont du mal à sécher rapidement ce film sans surchauffer l’arrière de la pâte, ce qui entraîne des distorsions dans les motifs imprimés. Nous avons donc conçu une lampe permettant d’éliminer efficacement l’humidité – un séchage uniquement sur la face avant, rapide, sans affecter négativement le budget thermique nécessaire au traitement.

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Lampe de suppression de l humidité des wafer