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		<title>Cure on Leading IR Heating Supplier</title>
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				<title>Lampe de séchage infrarouge certifiée fab</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampe de séchage infrarouge certifiée fab&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plancher de fabrication, l’horloge tourne sans arrêt. La lithographie impose le rythme, et l’étape de cuisson juste après l’exposition est celle où le rendement se maintient ou commence à décliner. Le photoresist nécessite une énergie thermique constante — Soft Bake pour évacuer le solvant et fixer les dimensions, Hard Bake pour durcir le masque avant l’étape de gravure. Un écart, même minime, dans la cuisson entraîne une dérive du contrôle des dimensions critiques, l’apparition de résidus après développement et une perte de sélectivité à la gravure. Il ne faut pas plus de chaleur. Il faut une chaleur reproductible, délivrée là où le procédé en a besoin, sans générer de particules ni de variabilité.&lt;/p&gt;</description>
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