<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>رطوبت on Leading IR Heating Supplier</title>
		<link>http://ir-heating-supply.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in رطوبت on Leading IR Heating Supplier</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heating-supply.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ حذف رطوبت ویفر</title>
				<link>http://ir-heating-supply.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heating-supply.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-supply.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;لامپ حذف رطوبت ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، حتی کمترین مقدار رطوبت در سطح ویفر می‌تواند باعث اختلال در فرآیند پختن آن شود. شما قبل از استفاده از ابزارهای لازم برای تابش نور، کنترل ضخامت فوتورزیست را از دست می‌دهید. همچنین، صفحات گرم ممکن است نتوانند به اندازه کافی سریع آن لایه را از روی ویفر بردارند، بدون اینکه سمت پشت ویفر گرم شود؛ در این صورت، الگوهای روی ویفر دچار تغییر می‌شوند. ما یک لامپ برای حذف رطوبت از روی ویفر ساختیم؛ این لامپ فقط سطح جلویی ویفر را خشک می‌کند، به سرعت عمل می‌کند، و همچنین باعث افزایش مصرف انرژی نمی‌شود.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
