Curación on Leading IR Heating Supplier

Reflector para lámpara de curado de obleas

Thu, 23 Jul 2026 12:01:39 +0800

Mantener la superficie de los wafers limpia (y su mente en calma)
Si usted opera en una sala limpia de clase 100, ya conoce ese verdadero infierno. Un pequeño desprendimiento de gases o una partícula que se desprende de una lámpara puede arruinar todo el lote de wafers. Cuando diseñamos reflectores y lámparas de calentamiento para el curado de wafers, nuestro objetivo principal es asegurarnos de que nada pueda afectar esa superficie de silicio.

Curado de underfill para IR de semiconductores

Tue, 30 Jun 2026 05:07:02 +0800

En la planta de fabricación, es durante el proceso de Curado del material de relleno donde el “presupuesto térmico” se convierte en un factor determinante para el rendimiento final del producto. Un pequeño desvío en las temperaturas puede causar problemas como vacíos en la estructura, problemas relacionados con los bordes del material o incompatibilidades en los coeficientes de expansión térmica, lo cual afectará negativamente las pruebas de fiabilidad del producto. Hemos diseñado nuestro sistema de curado por infrarrojos de tal manera que el calor permanezca donde debe estar: dentro del material, y no en las herramientas que lo rodean.

Lámpara de curado por infrarrojos certificada fab

Sun, 31 May 2026 04:46:38 +0800

En la planta de fabricación, el reloj no se detiene. La litografía marca el ritmo, y el paso de horneado justo después de la exposición es donde el rendimiento se mantiene o comienza a caer. El fotoresistente necesita energía térmica consistente: Soft Bake para eliminar el solvente y fijar las dimensiones, Hard Bake para fijar la máscara antes del grabado. Si el horneado se desvía aunque sea mínimamente, se observa una deriva en el control de dimensiones críticas, aparece residuo tras el revelado y la selectividad del grabado se deteriora. No se requiere más calor. Se necesita calor repetible, entregado donde el proceso lo requiere, sin añadir partículas ni variabilidad.