Trocknen on Leading IR Heating Supplier

Heizgerät zur Trocknung von MEMS Sensor Wafern

Sun, 19 Jul 2026 15:59:34 +0800

MemS-Wafern trocknen – ohne Probleme
Beim Trocknen von MemS-Sensorwafern muss man vorsichtig vorgehen. Das Flüssigkeit muss schnell entfernt werden – doch wenn man zu aggressiv vorgeht, können die winzigen, empfindlichen Mikrostrukturen beschädigt werden.

Lange Zeit wurden dazu große Konvektionsöfen verwendet. Doch ehrlich gesagt: Die Erwärmung einer großen Menge an Luft nur zum Trocknen einer dünnen Wafer ist verschwendete Energie. Deshalb haben wir auf kurzwellige IR-Heizlampen umgestellt. Das ist eine effektivere Methode – außerdem wird dadurch der CO2-Ausstoß im Reinraum reduziert.

Großhandelslampe zum Trocknen von Wafern

Tue, 07 Jul 2026 06:53:38 +0800

Großhandelsware: Trocknungsleuchten für Wafer – langlebig und zuverlässig
Wir fertigen diese Trocknungsleuchten nicht nur zum Ausstellen in Showrooms an. Sie sind dafür konzipiert, im Produktionsbetrieb eingesetzt zu werden – dort, wo Stillstand kostspielig ist und eine konstante Temperatur unerlässlich ist. Das Ziel ist einfach: Eine konstante, gezielte Hitze, die die Wafer trocknet, ohne dass es zu Schwankungen kommt.

Deshalb garantieren wir für jede Leuchte eine 24-monatige Qualitätsgarantie sowie 24-Stunden-Technikunterstützung. Denn wenn Ihre Produktionslinie stillsteht, brauchen Sie keine Ausreden. Sie benötigen eine Leuchte, die leicht einzurichten ist und von Menschen unterstützt wird, die schnell antworten.

Automatisierter Trockenheizer für Wafer

Wed, 01 Jul 2026 12:44:37 +0800

Auf dem Produktionsboden weiß man, wie schnell bereits ein einziger Fleck durch feuchte Reinigung oder ein Defekt im Fotolack dazu führen kann, dass ganze Chargen von Wafern unbrauchbar werden. In den thermischen Verarbeitungsschritten entscheidet sich dabei, ob die Qualität der Wafers erhalten bleibt oder nicht. Wir haben diesen automatischen Trockner für die Anforderungen des Wafertrocknens sowie der weichen und harten Belichtung entwickelt – mit einer reproduzierbaren Temperaturregelung, wie sie in der Lithografie erforderlich ist.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler sowie eine Schleifenmessung, um die Temperatur auf dem Wafer innerhalb von ±0,1°C zu halten. Diese Konstanz sorgt dafür, dass die kritischen Abmessungen stabil bleiben und dass es zu keiner Bildung von Schichten kommt. Die Kammer ist für den Einsatz in Reinräumen der Klassen 1–100 geeignet – mit polierten Oberflächen und laminarem Luftstrom, sodass keine Partikel entstehen. Die Einstellungen für Temperatur, Erhitzungsgeschwindigkeit und Aufenthaltsdauer sind festgelegt, sodass jede Behandlung genauso abläuft wie die vorherige.

Energieaudit für die Stofftrocknung

Tue, 02 Jun 2026 06:05:10 +0800

In der Fertigung ist Trocknen nicht einfach ein weiterer Punkt auf der Checkliste. Es ist der letzte thermische Schritt, bevor die Ausbeute gesichert wird, und legt die Grundlage für den nächsten Prozessschritt. Wenn die heiße Zone driftet oder das Energieprofil nicht kontrolliert wird, zeigt sich das sofort – Randperlen treten auf, Lösungsmittel verbleiben in der Bahn, und die Photoresist-Schicht widersetzt sich während des Hard Bake. Die Konsequenzen sind Nacharbeit, Ausschuss und die versteckten Kosten durch verschwendete Energie.