Lampe zur Entfeuchtung von Wafern

Thu, 25 Jun 2026 04:44:19 +0800

Im Bereich der Lithografie kann bereits ein Hauch an Oberflächenfeuchtigkeit dazu führen, dass die Trocknung des Photoresists nicht ordnungsgemäß abläuft. So verliert man die Kontrolle über die Dicke des Photoresists sowie über die Eigenschaften der CDs – und das schon bevor die Belichtungseinrichtung zum Einsatz kommt. Heiße Platten haben Schwierigkeiten, den Film schnell genug zu entfernen, ohne dabei die Rückseite der Wafer zu überhitzen. Dadurch entstehen Verzerrungen im Muster. Wir haben daher eine Lampe entwickelt, die die Feuchtigkeit von den Wafern entfernt – nur die Vorderseite der Wafer wird getrocknet, was schnell erfolgt und dabei die thermischen Belastungen minimiert.

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Lampe zur Entfeuchtung von Wafern